股票代號 :3551 世禾科技股份有限公司 Shih-Her Technologies Inc. 股票上櫃前法人說明會簡報 報告人 : 陳學哲總經理 97 年 04 月 10 日
簡報綱要 一 公司簡介 ------------------------2 二 產品與市場 ----------------------7 三 經營實績 -----------------------18 四 競爭利基 -----------------------22 五 研發成果及未來計畫 -------------25 1
一 公司簡介 2
基本資料 成立日期 :86: 年 6 月 23 日董事長 : 陳學聖總經理 : 陳學哲實收資本額 : 新台幣 339,423,500 元整員工人數 :508: 人公司地址 : 新竹縣湖口鄉新竹工業區大同路 17 之 2 號營業項目 : 半導體 光電及太陽能製程設備零組件之精密洗淨及再生處理 3
工廠簡介 世禾一廠 : 土地面積 :539 坪新竹縣湖口鄉新竹工業區大同路 17 之 2 號 世禾二廠 : 土地面積 :994 坪新竹縣湖口鄉新竹工業區復興路 30 號 世禾三廠 : 土地面積 :3,884 坪, 台南市安南區台南科技工業區工業二路 35 號註 : 世禾四廠 : 土地面積 :1,007 坪, 新竹縣湖口鄉新竹工業區仁政路 18 號 ( 建造中 ) 4
公司沿革 年月記要 86 年 06 月 公司及一廠設立, 專注於專業再生洗淨處理服務 實收資本額為新台幣 5,000 仟元 87 年 06 月開始處理 CD-RW 濺鍍設備治具 零件之再生洗淨 91 年 11 月通過 ISO 9001:ISO 2000 品質認證 92 年 02 月設立湖口復興二廠, 進行光電及平面顯示業之製程設備零組件精密洗淨及再生處理 94 年 01 月設立台南三廠, 成為奇美光電之最大平面顯示器生產設備零組件專業精密洗淨及再生處理供應商 其設備最大可處理能力包含 8 代 LCD 顯示器尺寸在內之零組件 95 年 01 月接獲美國太陽能電池製造大廠 SunPower 之精密洗淨及再生處理訂單, 開始切入太陽能產業之設備元件表面處理服務 95 年 12 月經 行政院金融監督管理委員會證券期貨局 核准公開發行 96 年 02 月經 財團法人中華民國證券櫃檯買賣中心 核准興櫃股票櫃檯買賣 96 年 03 月購入新竹湖口工業區仁政路 18 號土地, 進行擴建第四廠 96 年 11 月經 行政院金融監督管理委員會證券期貨局 核准上櫃申請案 97 年 4 月本公司股票正式上櫃掛牌交易 5
經營理念. 服務 - 客戶至上, 提供完整之服務價值鏈. 創新 - 致力研發, 不斷推出創新洗淨及再生處理製程. 成長 - 行銷國際, 快速複製成功商業模式. 分享 - 利潤分享, 與員工及股東共享成果 6
二 產品與市場 7
精密洗淨及再生處理零組件種類 半導體生產設備零組件 TSMC 12 wafer Chamber TSMC 8 Heater Chamber Lid TSMC 12 Etcher Quartz Bell Jar TFT-LCD 生產設備零組件 Gen. 6 th TFT Sputter Panel Gen. 6 th TFT Sputter Panel Holder Gen. 7.5 th Color Filter Module Masks 太陽能及硬碟生產設備零組件 SunPower 240KVA Solar Cell Panel Sputter Chamber Grid Tray SunPower 240KVA Solar Cell Panel Sputter Chamber Trays Trace Storage Hard Disc Driver Floppy Sputter Chamber Kids 8
主要精密洗淨及再生處理設備 以機械手臂(Robotic Shih-Her Technologies INC. 以機械手臂 System)進行電弧及電漿熔射塗層 進行電弧及電漿熔射塗層 (coating)自動化施工 自動化施工 10 9
電弧熔射處理設備之主要施工服務產品 10
電漿熔射處理設備之主要施工服務產品 Advanced System Robotic Spraying Protective Coating on 12 wafer vacuum Chamber parts 12 Al2O3 Y2O3 CP Ti MCrAlY 11
50 0-50 -100-150 -200-250 -300 50-50 -100-150 -200-250 -300 0-50 -100-150 -200-250 0 主要精密洗淨及再生處理設備 Particle 檢測儀 檢測機操作畫面 表面粗度計 高度測量儀 大型液壓整型機 大理石檢測台 世禾科技股份有限公司 TiN- CVD CHAMBER HEATER 檢查表 Messrs. TSMC-3 Heater No. D237 Date 2005/2/26 Handle Mode REPOLISH X Y 0 0 Refurbish record Date 1 2 3 4 5 6 7 8 X bar Data:µm Y bar Data:µm 45 bar Data:µm Heater Profiler 2008/4/15 Ring-chuck 測量儀 12
矽晶元濺鍍用加熱器表面曲線量測儀 世禾科技股份有限公司 TiN-CVD CHAMBER HEATER 檢查表 Messrs. TSMC-3 Heater No. D237 Date 2005/2/26 Handle Mode REPOLISH X Y 0 0 Refurbish record Date X bar 1 2 3 4 5 6 7 8 Data:µm 50 0-50 -100-150 -200-250 -300 Y bar Data:µm 50 0-50 -100-150 -200-250 -300 45 bar Data:µm 0-50 -100-150 -200-250 Heater Profile Tester 13
市場佔有率及目標 14
太陽能太陽能太陽能太陽能半導體半導體半導體半導體光電光電光電光電其他 1% 半導體 51% 光電 48% 其他 3% 半導體 50% 光電 47% 15 精密洗淨及再生處理產業類別分析精密洗淨及再生處理產業類別分析精密洗淨及再生處理產業類別分析精密洗淨及再生處理產業類別分析精密洗淨及再生處理產業類別分析精密洗淨及再生處理產業類別分析精密洗淨及再生處理產業類別分析精密洗淨及再生處理產業類別分析 93 年度年度年度年度 95 年度年度年度年度光電 49% 半導體 50% 其他 1% 94 年度年度年度年度未來方向未來方向未來方向未來方向未來方向未來方向未來方向未來方向 96 年度半導體部 56% 太陽能 4% 光電部 40% 96 年度年度年度年度
主要客戶 - 半導體 16
主要客戶 - 光電及太陽能 17
三 經營實績 18
最近三年度營業收入 907,654 921,712 1,000,000 900,000 800,000 700,000 600,000 500,000 400,000 300,000 200,000 100,000 - 仟元 720,896 94 年度 95 年度 96 年度 19
最近三年度稅後淨利 250,000 205,050 219,465 200,000 159,218 150,000 100,000 50,000 - 仟元 94 年度 95 年度 96 年度 20
最近三年度每股盈餘 7.69 7.80 7.60 7.40 7.17 7.20 7.00 6.80 6.59 6.60 6.40 6.20 6.00 元 94 年度 95 年度 96 年度 21
四 競爭利基 22
競爭利基. 先驅 - 最早投入精密 最早投入精密洗淨及再生處理技術之公司洗淨及再生處理技術之公司. 效率 - 高效率交貨能力 高效率交貨能力, 有效提升客戶營運效能. 品質 - 穩定度優於同業 穩定度優於同業, 品質獲客戶肯定. 國際化 - 具備跨國服務實績及海外接單能力 具備跨國服務實績及海外接單能力. 產業廣度 - 橫跨半導體 橫跨半導體 光電及太陽能三大產業光電及太陽能三大產業 23
產業地位 1. 尖端洗淨技術之先驅 由日方半導體設備廠商參與投資並技術指導, 後持續建立自有技術能力, 每年亦不斷推出全新之洗淨處理製程技術 2. 市占率領先同業 PVD 類產品洗淨技術量產能力強並有效降低生產處理成本, 可提供客戶最合理之收費並確保競爭力之領導地位 3. 具備國際服務及行銷經驗 首家具備國際服務行銷實績之精密零件洗淨廠, 區域含蓋美國 日本 新加坡及菲律賓之國際市場服務 24
五 研發成果及未來計畫 25
研發成果 年度 研發成果 91 年 成功開發 8 Wafer Chamber Heater 再生表面 Profile 控制研磨技術 93 年 成功開發 Al 電弧熔射於大面積工件之 Robot 自動化施工技術 94 年 成功開發 TFT Array Gen. 5 & 6 PVD Chamber 元件表面處理技術 95 年 成功開發 12 Wafer Quartz/Al2O3 元件表面陶瓷熔射技術 成功開發 TFT Array Gen.5,6&7 Panel Carrier 鋁合金新品製作技術 96 年 成功開發 12 90 Nano Wafer Encore Ta 製程設備元件表面處理技術 成功開發國產化電弧熔射用 Al 線材節省關鍵製程成本 40% 以上 26
未來研發計畫重點 研發專案 開發高壓水刀大面積厚膜除膜技術 開發新配方之高性能鋁合金陽極處理技術, 以提升半導體 CVD 及 Etcher lines 之技術突破點 藉由國際技術合作, 開發 Gen.7.5 及 Gen.8 之大型 TFT 及 Color Filter 設備關鍵元件之 CNC 精密加工技術 開發特殊製程技術 (Special Processes) SHT-SP6 /SP7/SP8 整合設備 設備元設備元件清洗及設備模組客制化之完整服務價值鏈市場 主要用途 用以提升大型 TFT LCD 製程設備工件厚膜除膜效率並降低洗淨成本 用以拓展本公司原本市佔有率較低之 CVD 及 Etcher lines 零件洗淨市場 建立零件洗淨加新品製作之全方位 TKM services 能量 (Total Solution Service Provider) 用於高溫及高真空之精密零件洗淨技術, 開拓金字塔頂端之高單價及高附加價值洗淨製程技術 27
未來發展之有利因素 1. 學習曲線長, 潛在競爭者跨入門檻高 2. 精密洗淨及再生處理技術持續領先 3. 具經濟規模及專業分工優勢 4. 有效營運模式, 易於快速複製 28
未來發展計劃 新興市場開拓 建立世禾科技成功商業模式 (Business Model) 之標準模組, 於半導體及光電之國際新興市場, 分別快速且精準地複製成長 高精密設備元件再生洗淨業之完整價值鏈 (Total Solution Provider for Parts Cleaning Value Chain) 建立, 即包含高單價元件精密機械加工及新特殊製程應用等能量之積極建立 創新洗淨技術 開發高壓水刀除膜技術, 針對大面積及厚膜之應用, 可有效提升世禾科技於 TFT-Array 元件洗淨之市場占有率 開發新配方之高性能鋁合金陽極處理技術 (Code SHT-1 Al2O3), 以提供世禾科技於半導體 CVD 及 Etcher lines 之技術突破點 29
新建廠房計畫 1 新竹行政大樓 --- 約 820 坪, 預計 7 月完工 2 研發總部及特殊製程廠 --- 約 1800 坪, 預計 12 月完工 3 台南廠新建 7.5 代和 8.5 代 TFT-LCD Parts 洗淨廠 --- 約 1700 坪, 預計 11 月完工 4 深圳廠新建廠房 --- 約 3000 坪, 預計 12 月完工 30
世禾科技股份有限公司 Shih-Her Technologies Inc. 報告完畢. 敬請指教 www.sht.com.tw 31