現 有 各 種 AOI 技 術 機 械 視 覺 與 影 像 處 理 光 干 涉 技 術 光 繞 射 技 術 光 散 射 技 術 光 掃 描 技 術 共 焦 量 測 法 光 譜 技 術 光 測 力 學 技 術 奈 米 量 測 技 術



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(1) 參 加 直 轄 市 縣 市 性 比 賽 : 可 得 6 分, 可 得 5 分, 可 得 4 分, 可 得 3 分, 第 5 名 可 得 2 分, 第 6 名 以 後 可 得 1 分 (2) 參 加 性 比 賽 : 直 轄 市 縣 市 性 比 賽 各 之 得 分 乘 以 2 (3) 參 加 國

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肆 研 究 方 法 進 行 本 研 究 前, 我 們 首 先 對 研 究 中 所 用 到 名 詞 作 定 義 定 義 : 牌 數 : 玩 牌 時 所 使 用 到 撲 克 牌 數 次 數 : 進 行 猜 心 術 遊 戲 時, 重 複 分 牌 次 數 數 : 進 行 猜 心 術 遊 戲 時, 每 次 分

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一、 資格條件:

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一、報考資格: 碩士班:公立或已立案之私立大學或獨立學院或經教育部認可之國外大學畢業生或應屆畢業生,或具報考大學碩士班之同等學力資格,並符合本校各所訂定之條件者

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Transcription:

AOI 科 技 在 製 程 監 測 上 之 應 用 主 講 人 : 章 明 教 授 中 原 大 學 機 械 工 程 學 系

現 有 各 種 AOI 技 術 機 械 視 覺 與 影 像 處 理 光 干 涉 技 術 光 繞 射 技 術 光 散 射 技 術 光 掃 描 技 術 共 焦 量 測 法 光 譜 技 術 光 測 力 學 技 術 奈 米 量 測 技 術

自 動 化 光 學 檢 視 系 統 架 構 檢 視 技 術 - 二 維 量 測 影 像 處 理 三 維 量 測 機 構 系 統 - 機 構 設 計 光 源 系 統 視 覺 系 統 控 制 系 統 - 定 位 控 制 同 步 控 制 機 台 控 制 監 控 系 統 - 網 路 傳 輸 影 像 傳 輸 診 斷 與 維 護 影 像 卡 RS232 控 制 CCD 光 源 控 制 器 伺 服 馬 達 個 人 電 腦 Pc(Server) 移 動 平 台 驅 動 器 網 際 網 路 個 人 電 腦 Pc(Client)

影 像 擷 取 系 統

影 像 感 測 元 件

相 機 搭 配 影 像 擷 取 卡 應 注 意 事 項 1 支 援 影 像 傳 輸 規 格 2 影 像 卡 最 大 解 析 3 資 料 傳 輸 速 率 4 其 他 特 殊 規 格 影 像 擷 取 卡

鏡 頭 選 取

光 源

光 源 架 設 Light Source Camera

移 位 機 構

光 學 尺 ( 定 位 與 迴 授 )

光 學 二 維 量 測 技 術 ( 橫 向 尺 寸 ) CCD 影 像 擷 取 數 位 影 像 處 理 技 術 圖 形 識 別 技 術 自 動 化 檢 測 (AOI) 目 前 台 灣 需 要 量 最 大 的 檢 測 技 術 與 設 備

光 學 二 維 影 像 檢 測 應 用 I. PCB 瑕 疵 檢 測 II. PCB 基 板 檢 測 III. IC 腳 位 檢 測 IV. 面 板 輝 度 檢 測 V. 面 板 像 點 檢 測 VI...

印 刷 電 路 板 瑕 疵 檢 測 一 般 檢 測 流 程 : 1) CCD 擷 取 影 像 2) 圖 形 正 規 化 (a) 標 準 影 像 (b) 待 測 瑕 疵 影 像 3) 影 像 相 減 4) 強 化 微 分 5) 細 線 化 (c) 影 像 相 減 結 果 蝕 刻 瑕 疵 樣 本 檢 測 結 果 : (d) 檢 測 結 果 影 像 (a) 標 準 影 像 (b) 待 測 瑕 疵 影 像 (c) 影 像 相 減 結 果 及 (d) 檢 測 結 果 影 像

IC 腳 位 檢 測 1) 擷 取 影 像 2) 正 規 化 3) 影 像 相 減 (a) 正 常 IC 腳 位 情 況 (b)ic 腳 位 發 生 瑕 疵 情 況 (c) 檢 測 結 果

LCD 像 點 瑕 疵 檢 測

TFT LCD Thin Film Transistor - Liquid Crystal Display 薄 膜 電 晶 體 - 液 晶 顯 示 器 偏 光 板 液 晶 分 子 不 加 電 場 加 入 電 場 所 謂 的 TFT LCD 指 的 是 利 用 TFT( 薄 膜 電 晶 體 ) 當 做 開 關, 控 制 LCD( 液 晶 顯 示 器 ) 上 每 一 個 Pixel( 畫 素 ) 的 明 暗, 以 達 到 顯 示 色 彩 的 效 果 液 晶 同 時 具 有 固 態 和 液 態 兩 種 物 理 特 性 的 物 質 其 中 一 個 很 炫 的 特 色 是 它 會 依 據 所 施 加 的 電 壓 改 變 位 置

TFT-LCD 的 面 板 構 造 18

TFT LCD 主 要 製 程 薄 膜 電 晶 體 元 件 工 程 (Array) ( TFT Array Engineering ) 面 板 工 程 (Cell) (Panel Engineering ) 模 組 組 立 工 程 (Module) ( Module Assembly Engineering)

製 程 說 明 製 程 說 明 Array Process Cell Process Module Process Source:SEMI PCS-Forum-FPD

組 裝 完 畢 後 之 面 板 結 構 示 意 圖 TFT 框 膠 偏 光 板 外 框 玻 璃 基 板 Black matrix Color filter overcoat TAB Cell CF 基 板 CF 共 通 電 極 配 向 膜 液 晶 Array TFT 基 板 MDL 偏 光 板 Driver LSI 擴 散 板 Spacer 分 光 片 反 射 板 側 光

薄 膜 電 晶 體 Array 工 程 APC 系 統

Arraya 製 程 I 檢 需 求 - 瑕 疵 即 時 辨 識 系 統 製 程 流 程 洗 淨 成 膜 微 影 蝕 刻 剝 膜 五 層 光 罩 閘 電 極 光 罩 (GE) 島 狀 半 導 體 光 罩 (SE) 源 / 汲 電 極 光 罩 (SD) 接 觸 孔 洞 光 罩 (CH) 畫 素 電 極 光 罩 (PE) n + a-si Glass Substrate G a-si D S ITO G-SiN x

閘 電 極 光 罩 (GE) 瑕 疵 閘 電 極 - 儲 存 電 容 短 路 刮 傷 異 物 塗 佈 異 常

島 狀 半 導 體 光 罩 (SE) 瑕 疵 閘 電 極 儲 存 電 容 短 路 SE 殘 SE 殘 連 橫 塗 佈 異 常 膜 浮 起 及 膜 剝 落 皺 膜 浮 及 皺 膜 剝 異 物 刮 傷

源 / 汲 電 極 光 罩 (SD) 瑕 疵 GE 殘 SE 殘 SD 殘 源 / 汲 電 極 短 路 異 物 塗 佈 異 常 顯 影 異 常 刮 傷 GE 圖 案 突 出 體

接 觸 孔 洞 光 罩 (CH) 瑕 疵 GE 殘 SE 殘 源 / 汲 電 極 短 路 源 電 極 線 斷 路 接 觸 孔 洞 異 常 異 物 刮 傷

畫 素 電 極 光 罩 瑕 疵 GE 殘 SE 殘 SD 殘 源 電 極 斷 路 異 物 PE2 連

面 板 光 電 二 維 檢 測 需 求 例 舉 面 板 光 電 二 維 檢 測 需 求 例 舉 檢 測 目 標 檢 測 項 目 檢 測 原 理 技 術 關 鍵 玻 璃 基 板 玻 璃 刮 傷 異 物 針 孔 污 染 低 角 度 雷 射 光 反 射 雙 斜 向 散 亂 光 比 較 法 雷 射 光 斑 檢 測 膜 質 膜 厚 均 勻 性 雷 射 干 涉 法 光 學 設 計 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 濺 鍍 成 膜 薄 膜 阻 抗 電 氣 光 學 調 變 檢 測 電 壓 映 像 (Voltage Imaging) 技 術 異 物 污 染 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 光 罩 檢 測 異 物 污 染 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 線 寬 間 距 圖 案 缺 陷 斷 線 短 路 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 電 極 圖 樣 短 路 開 路 電 極 阻 抗 探 針 Open / Short 機 構 製 作 精 度 伺 服 控 制 影 像 對 位 Array 驅 動 特 性 電 氣 光 學 調 變 檢 測 電 壓 映 像 (Voltage Imaging) 技 術 (RGB) 色 度 穿 透 率 反 射 率 光 譜 儀 量 測 計 算 色 度 亮 度 色 度 學 演 算 法 Color Filter (BM) 線 寬 間 距 圖 案 缺 陷 斷 線 短 路 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 異 物 污 染 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 配 向 處 理 PI 膜 質 膜 厚 均 勻 性 雷 射 干 涉 法 光 學 設 計 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 Pinhole 異 物 污 染 均 勻 性 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 Spacer 處 理 Spacer 分 布 密 度 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 面 板 組 立 面 板 間 隙 雷 射 共 焦 位 移 檢 測 光 學 設 計 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 磨 邊 導 角 裂 痕 檢 測 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 面 板 點 燈 檢 查 點 缺 陷 線 缺 陷 亮 度 Mura 色 度 Mura 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 偏 光 板 貼 附 氣 泡 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 OLB 電 極 偏 移 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 BLU 檢 查 色 度 亮 度 均 勻 性 光 譜 儀 量 測 計 算 色 度 亮 度 色 度 學 演 算 法 模 組 點 燈 檢 查 點 缺 陷 線 缺 陷 亮 度 Mura 色 度 Mura 光 學 影 像 擷 取 檢 查 影 像 擷 取 處 理 演 算 法 色 度 亮 度 均 勻 性 光 譜 儀 量 測 計 算 色 度 亮 度 色 度 學 演 算 法

太 陽 光 電 製 程 監 測 應 用

什 麼 是 電 路 板 (What is PCB?) PCB ( Printed Circuit Board ) 中 文 稱 為 印 刷 電 路 板, 也 有 人 稱 為 PWB ( Printed Wiring Board ), 顧 名 思 義 該 產 品 是 以 印 刷 技 術 製 作 的 電 路 產 品 他 取 代 了 1940 年 代 前, 電 器 產 品 以 銅 線 配 電 的 方 式, 使 大 量 生 產 複 製 速 度 加 快, 產 品 體 積 得 以 縮 小 方 便 性 提 昇 單 價 降 低 早 期 的 電 路 板 是 將 金 屬 融 熔 覆 蓋 於 絕 緣 板 表 面, 作 出 所 要 的 線 路 1936 年 以 後, 製 作 的 方 法 轉 向 將 覆 蓋 有 金 屬 的 絕 緣 基 板 以 耐 蝕 油 墨 作 區 域 選 別, 將 不 要 的 區 域 以 蝕 刻 的 方 法 去 除, 這 樣 的 做 法 叫 做 ( Subtractive Method ) 1960 年 以 後, 電 唱 機 / 錄 音 機 / 錄 影 機 等 產 品 市 場, 陸 續 採 用 了 雙 面 貫 通 孔 的 電 路 板 製 造 技 術, 於 是 耐 熱 及 尺 寸 安 定 的 環 氧 樹 脂 基 板 被 大 量 採 用, 至 今 仍 為 電 路 板 製 作 的 主 要 樹 脂 基 材

電 路 板 大 分 類 電 路 板 大 分 類 (PCB Main Categories) (PCB Main Categories)

電 路 板 的 應 用 (PCB Application) 隨 著 計 算 機 工 業 的 急 速 發 展, 刺 激 了 PCB 的 大 量 量 產 化, 由 早 期 的 收 音 機 電 視 機 電 唱 機, 代 之 而 起 有 隨 身 聽 電 子 計 算 機 電 腦 筆 記 型 電 腦 電 子 交 換 機 大 哥 大 等 產 品 接 踵 而 至 PCB 用 在 一 般 性 商 品 上 大 致 可 分 成 三 大 類 : 1. 資 訊 類 : NETWORK COMMUNICATION MICROCOMPUTER CAM/CAD SYSTEM 筆 記 型 電 腦 (NOTEBOOK) 桌 上 型 電 腦 (DESKTOP) 汽 車 控 制 系 統 電 子 構 裝 2. 通 訊 類 : 大 哥 大 手 機 通 訊 網 路 系 統 INTERNET INTERNET INTRANET INTRANET MODEM MODEM 3. 消 費 性 : 電 動 玩 具 電 視 機 收 錄 音 機 錄 放 影 機 印 表 機 影 印 機

微 處 理 器 基 板 電 腦 系 統 關 係 圖 (Computer System) 桌 上 型 電 腦 微 處 理 器 主 機 板 PCB(Motherboard)

手 機 系 統 關 係 圖 (Cell Phone System) 液 晶 螢 幕 : 這 個 畫 面 能 呈 現 通 話 狀 態 所 撥 的 號 碼, 以 及 其 他 訊 息 訊 息 處 理 晶 片 : 這 個 晶 片 負 責 無 線 通 訊 的 責 任 語 音 編 碼 器 : 這 個 晶 片 決 定 了 聲 音 是 人 性 化 或 機 械 化 有 出 色 音 質 的 話 機 記 憶 晶 片 : 裡 面 包 含 了 聯 絡 電 話 及 個 人 喜 好 設 定 麥 克 風 : 它 會 將 人 聲 以 類 比 的 方 式 傳 給 編 碼 器, 以 便 轉 換 成 數 位 訊 號

典 型 PCB 二 維 瑕 疵 無 瑕 疵 印 刷 電 路 樣 本 有 瑕 疵 的 印 刷 電 路 板 樣 1:Breakout 2:Pin Hole 3:Open 4:Underetch 5:Mouse bite 6:Missing Conductor 7:Spur 8:Short 9:Wrong Size Hole 10:Conductor too close 11:Spurious copper 12:Excessive Short 13:Missing Hole 14:Over etch

多 層 板 內 層 流 程 INNER LAYER PRODUCT Blind Via 雷 射 鑽 孔 LASER ABLATION 多 層 板 內 層 製 作 流 程 多 層 板 內 層 製 作 流 程 裁 板 LAMINATE SHEAR MLB 內 層 乾 膜 INNERLAYER IMAGE 曝 光 EXPOSURE DOUBLE SIDE 壓 膜 LAMINATION 蝕 銅 I/L ETCHING 去 膜 STRIPPING 蝕 銅 ETCHING AO I 檢 查 AOI INSPECTION 預 疊 板 及 疊 板 LAY- UP 預 疊 板 及 疊 板 LAY- UP 烘 烤 BAKING 壓 合 LAMINATION 後 處 理 POST TREATMENT 壓 合 LAMINATION 鑽 孔 DRILLING 前 處 理 PRELIMINARY TREATMENT 顯 影 DEVELOPING 黑 化 處 理 BLACK OXIDE

乾 膜 製 作 流 程 乾 膜 製 作 流 程 基 板 壓 膜 壓 膜 後 曝 光 顯 影 蝕 銅 去 膜

外 層 製 作 OUTER-LAYER TENTING PROCESS 外 層 製 作 流 程 外 層 製 作 流 程 鑽 孔 DRILLING 通 孔 電 鍍 P. T. H. DESMER 除 膠 渣 通 孔 電 鍍 前 處 理 E-LESS CU PRELIMINARY TREATMENT 全 板 電 鍍 PANEL PLATING 外 層 乾 膜 OUTERLAYER IMAGE 曝 光 EXPOSURE 壓 膜 LAMINATION 前 處 理 PRELIMINARY TREATMENT 二 次 銅 及 錫 鉛 電 鍍 PATTERN PLATING 錫 鉛 電 鍍 二 次 銅 電 鍍 T/L PLATING PATTERN PLATING 蝕 銅 O/L ETCHING 剝 錫 鉛 T/L STRIPPING 蝕 銅 ETCHING 去 膜 STRIPPING 檢 查 INSPECTION

外 層 檢 查 製 程 目 的 一 般 PCB 製 作 會 在 兩 個 步 驟 完 成 後 做 全 檢 的 作 業 : 一 是 線 路 完 成 ( 內 層 與 外 層 ) 後, 二 是 成 品, 本 章 針 對 線 路 完 成 後 的 檢 查 來 介 紹 檢 查 方 式 1. 電 測 2. 目 檢 以 放 大 鏡 附 圓 形 燈 管 來 檢 視 線 路 品 質, 以 及 對 位 準 確 度, 若 是 外 層 尚 須 檢 視 孔 及 鍍 層 品 質, 通 常 會 在 備 有 10 倍 目 鏡 做 進 一 步 確 認, 這 是 很 傳 統 的 作 業 模 式, 所 以 人 力 的 須 求 相 當 大 但 目 前 高 密 度 設 計 的 板 子 幾 乎 無 法 在 用 肉 眼 檢 查, 所 以 下 面 所 介 紹 的 AOI, 會 被 大 量 的 使 用 3.AOI-Automated optical Inspection 自 動 光 學 檢 驗 因 線 路 密 度 逐 漸 的 提 高, 要 求 規 格 也 愈 趨 嚴 苛, 因 此 目 視 加 上 放 大 燈 鏡 已 不 足 以 過 濾 所 有 的 缺 點, 因 而 有 AOI 的 應 用

選 擇 性 鍍 鎳 鍍 金 SELECTIVE GOLD ( 4 ) 外 觀 及 成 型 製 作 流 程 ( 4 ) 外 觀 及 成 型 製 作 流 程 檢 查 INSPECTION 前 處 理 PRELIMINARY TREATMENT 塗 佈 印 刷 S/M COATING 液 態 防 焊 LIQUID S/M 後 烘 烤 POST CURE 顯 影 DEVELOPING 印 文 字 SCREEN LEGEND 噴 錫 HOT AIR LEVELING HOT 鍍 AIR 金 LEVELING 手 指 鍍 化 學 鎳 金 G/F PLATING E-less Ni/Au 成 型 FINAL SHAPING 電 測 ELECTRICAL TEST 外 觀 檢 查 VISUAL INSPECTION 出 貨 前 檢 查 O Q C 銅 面 防 氧 化 處 理 O S P (Entek Cu 106A) 包 裝 出 貨 PACKING&SHIPPING 預 乾 燥 PRE-CURE 曝 光 EXPOSURE 全 面 鍍 鎳 金 GOLD PLATING For O. S. P.

二 維 影 像 檢 測 發 展 方 向 高 解 析 度 ( 高 精 度 ) 快 速 ( 產 品 全 檢 多 媒 體 應 用 ) 自 動 化 (AOI) 彈 性 ( 多 尺 寸 需 求 ) 操 作 簡 易 與 製 程 管 制 技 術 整 合

光 學 三 維 輪 廓 量 測 技 術 ( 縱 向 尺 寸 ) 光 雷 達 法 時 間 差 測 定 相 位 差 測 定 光 學 非 接 觸 式 量 測 主 動 式 被 動 式 主 動 立 體 法 照 度 差 立 體 法 疊 紋 法 干 涉 法 透 鏡 焦 點 法 立 體 視 覺 法 動 畫 ( 物 體 移 動 ) 點 光 單 線 光 多 線 光 階 段 光 編 碼 化 圖 案 光 濃 度 彩 色 梯 度 圖 案 光 雙 鏡 頭 參 鏡 頭 多 鏡 頭 攝 影 機 移 動 型

三 維 資 料 擷 取 方 式 三 角 法 飛 行 時 間 法 疊 紋 法 干 涉 法 光 度 法 傅 立 業 轉 換 其 他

雷 射 掃 描 與 結 構 光 法 逐 點 掃 描 逐 線 掃 描 光 柵 與 格 子 結 構

雷 射 探 頭 量 測 原 理

雷 射 探 頭 在 三 次 元 量 床 上 之 應 用 (b) 圖 形 (a) 量 測 系 統

r = 雷 射 逐 點 掃 描 三 維 量 測 D sin[180 0 sin θ 1 ( θ 1 + θ 2 )]

三 角 測 距 原 理 θ (x,z) 平 面 上 (y,z) 平 面 上 f u f v = = z x z y b + z x x y = = cot u v θ y x = = f f 其 中 b,f, θ 為 系 統 參 數 值 bu cot θ u u,v 為 測 量 值 bv bf z = cot θ u f cot θ u

雷 射 逐 線 掃 描 三 維 量 測

量 測 實 例

覆 晶 封 裝 之 銀 膠 厚 度 與 均 勻 度 檢 測 黏 晶 製 程 及 覆 晶 封 裝 之 銀 膠 厚 度 與 晶 片 傾 斜 度 檢 測 量 測 實 例 --BLT 檢 測 儀 系 統 Department Of Mechanical Engineering, Chung Yuan Christian University

黏 晶 製 程 及 覆 晶 覆 封 晶 裝 封 之 裝 銀 之 膠 銀 厚 膠 度 厚 與 度 晶 與 片 均 傾 勻 斜 度 檢 測 晶 片 檢 測 掃 描 影 像 細 線 化 處 理 Department Of Mechanical Engineering, Chung Yuan Christian University

微 小 尺 寸 量 測 常 見 困 擾 雷 射 光 束 細 化 高 反 射 光 現 象

結 構 光

r d 雙 鏡 頭 法 f 2 x 1 + x 2 1 x 2 + x 2 2

CCD 影 像 校 正 示 意 圖 CCD 影 像 Pin-hole 模 型 相 差 模 型

飛 行 時 間 法 D = L + 2 D = L + λ ( θ 360 )

自 動 對 焦 系 統 自 動 調 焦 直 接 調 焦 間 接 調 焦 斜 光 束 式 雷 射 光 掃 描 光 束 掃 描 電 視 掃 描 圖 像 處 理 圖 像 掃 描 電 容 測 量 式 測 距 式 偏 心 光 束 式 氣 動 式 相 關 法 空 間 濾 波 法 M T F 法 刀 口 法 平 滑 法 二 極 管 多 重 掃 描 雙 向 蟲 合 法 投 射 光 法 聲 納 測 距 法 三 角 測 距 法 積 分 法 微 分 法 像 散 法 信 號 探 測 器 : 光 電 攝 影 管 CCD 光 電 池 光 電 二 極 管 及 其 陣 列

雷 射 掃 描 顯 微 鏡 光 學 原 理 圖

四 象 限 感 測 器 之 訊 號 處 理 與 S 曲 線

雲 紋 法 (Morie) 定 義 由 兩 組 或 兩 組 以 上 的 規 則 幾 何 圖 案 重 疊 後 所 產 生 較 粗 的 條 紋 稱 為 雲 紋 基 本 性 質 當 兩 組 直 線 光 柵 重 疊 時 會 因 為 間 距 與 指 向 之 不 同 而 產 生 雲 紋

雲 紋 法 在 工 程 量 測 上 應 用 技 術 面 內 雲 紋 法 ( 量 測 面 內 變 形 與 應 變 ) 陰 影 雲 紋 法 ( 量 測 面 外 變 形 與 輪 廓 ) 投 射 條 紋 法 ( 量 測 面 外 變 形 與 輪 廓 ) 反 射 雲 紋 法 ( 量 測 斜 率 ) 雲 紋 干 涉 術 ( 高 解 析 度 面 內 雲 紋 )

陰 影 雲 紋 法

投 射 條 紋 法 干 涉 條 紋 法 光 柵 影 像 法

投 射 條 紋 法 量 測 結 果

雲 紋 干 涉 術

干 涉 (Interference) ] [ 2 2 2 ] [ 1 1 1 2 2 2 2 1 1 1 1 ) ( ) ( φ φ + + = = t w r n k i w t r n k i e r A E e r A E r r r r r r r r ( ) ( ) 2 1 2 1 E E E E I r r r r + + ( ) [ ] ω Δφ + Δ Δ + + = t n kr I I I I r r cos 2 2 1 2 1 其 中 ( ) 1 2 1 2 1 1 2 2 φ φ φ ω ω ω = Δ = Δ = Δ r k r k kr r r r 干 涉 圖 影 響 因 素 光 程 差 頻 差 初 始 相 位 差

干 涉 條 紋 強 度 分 佈 圖

Coherence is a measure of the correlation that between the phases of the wave measured at different points. Temporal coherence tells us how monochromatic a source is. Coherence time:maximum transit difference for good contrast fringes Coherence length:distance light travels during coherence time Spatial coherence tells us how uniform the phase of the wave front is.

單 頻 干 涉 儀 在 工 程 上 的 應 用 在 形 成 干 涉 的 二 道 光 束 中 任 一 路 徑 內 加 上 待 測 元 件, 透 過 定 量 分 析 其 干 涉 圖 形 的 相 位 分 布, 即 可 反 推 出 待 測 元 件 的 表 面 狀 況 例 如 元 件 品 質 檢 測 外 型 輪 廓 檢 測 表 面 粗 糙 度 檢 測 厚 度 檢 測

鏡 頭 像 差 與 鏡 片 輪 廓 測 試 Spberical Aberration+Coma Spberical Aberration Spberical Aberration+Coma+Astigmatism Coma Spberical Aberration+Astigmatism Astigmatism Coma+Astigmatism Interferograms,Combined Aberrations

Phase Shifting Interferometry (PSI) [ 1 + cos ( + K z ) ] E = E φ Δ 0 where Ø=unknown phase z=variable OPD E E E E φ 1 2 3 4 ( Δ z = 0 ) = E ( 1 + Cos ) 0 φ ( ) Δ z = λ = E 0 ( 1 Sin φ ) 4 ( ) Δ z = λ = E 0 ( 1 Cos φ ) 2 ( ) Δ z = 3 λ = E 0 ( 1 + Sin φ ) 4 1 E 4 E 2 = Tan E E 1 3

Phase Shifter 精 準 度 高, 但 限 制 待 測 物 體 表 面 相 鄰 兩 點 高 度 差 需 在 1/4λ 以 內 Moving mirror Diffraction grating Bragg cell Rotating half-wave plate

白 光 顯 微 干 涉 儀 資 料 擷 取 技 術 有 二 垂 直 掃 描 移 相 干 涉 術

白 光 干 涉 原 理 利 用 白 光 干 涉 在 零 光 程 差 時, 其 條 紋 對 比 度 最 強, 來 判 別 零 光 程 差 位 置, 搭 配 垂 直 掃 描 量 測 可 求 得 物 體 表 面 形 貌 變 化

白 光 干 涉 應 用

雷 射 ( 雙 頻 ) 干 涉 儀

雙 頻 干 涉 儀 在 工 程 上 的 應 用 利 用 頻 率 稍 異 的 二 光 波 的 相 互 干 涉, 透 過 拍 頻 的 量 測, 可 用 來 測 速 測 距 測 位 移 高 精 度 外 型 檢 測 光 學 晶 體 厚 度 檢 測 數 控 工 作 母 機 精 度 校 正

數 控 工 具 機 精 度 校 正 位 移 精 度 誤 差 直 線 精 度 誤 差 角 位 移 誤 差 直 角 度 誤 差 平 面 度 誤 差 3 control axis(x,y,z),21 error sources

光 學 三 維 檢 測 研 發 方 向 光 通 訊 元 件 3D 尺 寸 量 測 微 3D 元 件 振 動 動 態 量 測 3D 彩 色 影 像 表 面 量 測 技 術 微 / 奈 米 級 三 次 元 量 測 儀 技 術 3D 內 層 瑕 疵 掃 描 量 測 技 術

其 他 光 學 量 測 技 術 光 繞 射 技 術 焦 散 法 共 焦 量 測 法 光 譜 技 術 光 彈 性 力 學 光 散 射 技 術 全 像 干 涉 術 光 纖 感 測 技 術 斑 點 干 涉 術 SEM AFM 等 奈 米 量 測 技 術

結 語 : 光 學 量 測 技 術 應 用 領 域 尺 寸 與 瑕 疵 量 測 資 料 儲 存 與 處 理 材 料 性 質 檢 測 繞 射 光 柵 應 力 分 析 光 學 元 件 測 試 位 移 與 形 變 量 測 全 像 光 學 元 件 非 破 壞 性 檢 測 質 粒 尺 寸 振 動 分 析 立 體 顯 微 術 等 高 線 測 繪

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