工業工程年會論文邀稿格式

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构透季
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1 創新氨氮廢水資源化傅正貴李玫許哲彰王俊元 1 台灣積體電路製造股份有限公司 14B 廠主任工程師 [email protected] 2 台灣積體電路製造股份有限公司廠務處副理 [email protected] 3 台灣積體電路製造股份有限公司 14B 廠工程師 [email protected] 4 台灣積體電路製造股份有限公司 14B 廠部經理 [email protected] 摘要半導體製程中廣泛使用 RCA Standard Clean-1( 氨水 + 雙氧水 ) 的清洗程序去除晶圓表面的微粒污染物, 而造成排放的廢水中含有高濃度的氨氮依新制之竹中南科學園區的放流水納管標準, 氨氮列為納管的管制物質, 而半導體廠內含氨氮的廢水若未經處理則無法符合三個園區的納管標準在此時空背景條件下, 本文介紹工廠內評估氨氮主要處理的方法如下 : 觸媒裂解 ANAMMOX 生物處理硫酸吸附提濃為氨水.. 等數種處理方式, 並依模場 (pilot) 的測試結果及半導體廠廢棄物的現況進行全盤性的考量, 經整體評估後最後採用以脫氣膜 (Membrane Contactors) 將含氨氮廢水以硫酸吸附方式轉換為硫酸銨的液態廢液, 並作為工業級硫酸銨回收再利用經兩年的實務操作數據顯示 : 含氨氮廢水經兩段脫氣膜 (Membrane Contactors) 以硫酸吸附處理之操作 PH 值控制於 11.5~11.8 間及氨氮廢水與硫酸操作流量比例為 1:1.5~2 間時, 氨氮除效率可達 80%~85%, 經第三段脫氣膜後則可達 95% 以上的氨氮去除率而附產物硫酸銨的濃度可達 25% 以上的允收標準關鍵字 : 氨氮處理脫氣膜半導體製程 1. 前言氮在廢水中以分子態氮有機態氮氨態氮硝態氮亞硝態氮以及硫氰化物和氰化物等多種形式存在, 而氨氮是最主要的存在形式之一檢視自然界氮循環與失衡污染影響 ( 如圖 1), 亞硝酸鹽是氨轉化為硝酸鹽過程中的中間產物, 亞硝酸鹽對魚蝦的毒性較強, 當水中亞硝酸鹽濃度積累到 0.1mg/L 後, 魚蝦紅細胞數量和血紅蛋白數量逐漸減少, 血液載氧能力逐漸減低, 而造成魚蝦慢性中毒 ; 同樣地, 當水中的未解離氨 (NH 3) 大於 1 ~ 2 mg/l 時, 短時間內就可使水產動物產生急性氨中毒, 會抑制中樞神經系統代謝能量的產生, 使魚類產生抽慉失去平衡, 甚至昏迷的症狀正常養殖水體氨氮一般不超 0.2 mg /L 為宜嚴重時會使水中溶氧量下降, 魚類大量死亡, 甚至會導致湖泊的乾涸滅亡另外, 營養鹽類之物質過多, 會引起水中藻類及其他微生物大量繁殖, 形成優養化且這些污染會造成飲用水的異味外, 也會增加給水消毒殺菌處理過程中的用氯量, 甚至影響飲用水源之水質, 使自來水處理廠運行困難有鑑於此, 環保署修訂放流水標準增列氨氮標準圖 1 自然界氮循環與失衡污染影響針對放流水氨氮排放現況最新的調查結果顯示, 高科技產業因使用大量含氮化學藥品, 其氨氮排放總量推估約佔全國總量之 34% 同時針對光電材料元件與科學工業區下水道進行氨氮污染濃度進行分析, 發現單一廠其排放納管氨氮濃度最高可達數百 mg/l, 此結果顯示高科技產業之氨氮廢水排放比例與檢測值確實偏高, 需要進行妥善管制因此, 環保署發布晶圓製造及半導體製造業放流水標準光電材料及元件製造業放流水標準與科學工業園區污水下水道系統放流水標準等, 皆已將氨氮納為科技業之管制項目, 將分階段進行管制, 並訂定光電材料及元件製造業科學工業園區污水下水道系統之放流水標準

2 表 2 科學園區廢水處理廠廢水含氮物質濃度圖 2 各科學園區管理局氨氮法規管制時程與限值 2. 半導體廠氨氮廢水 2.1 氨氮廢水來源在半導體業常用之含氨氨化學品, 氨水顯影劑 TMAH 蝕刻液氟化銨和去光阻劑為主要氨氮廢水之來源, 如表 1 所示依據環保署 101 年事業廢水特性調查及污染管制措施研議計畫調查, 各科學園區廢水處理廠含氮物質濃度 : 原廢水氨氮濃度某園區甚至高達 1020 mg/l, 硝酸鹽氮大多數小於 50 mg/l; 總氮主要來自氨氮濃度之貢獻某園區亦高達 1100 mg/l 如此可見, 工業廢水氨氮污染之嚴重表 1 半導體業常用之含氨氨化學品氨氮濃度現況名稱俗名化學名稱 ppm 處理方式 NMD-W (2.38%), 3,662 收集系統顯影液氫氧化四甲銨 2.2 氨氮廢水處理方法簡介整體而言, 氨氮廢水處理方式可分為生物處理物化處理化學加藥處理等三大方式, 而其副產物或終端產物大致可分為 N 2 NO - 3 (NH 4) 2SO 4 MgNH 4PO 4 NH 4OH 等等其常見之處理方式大約有以下幾種方式, 如圖 3 所示 : A. 生物處理 : 硝化脫氮 (AO SBR 等 ) Anammox 生化混合濕地法 B. 化學加藥處理 : 折點加氯電化學沉降高級氧化 + C. 物化處理 : 含 NH 3 氣提與 NH 4 離子交換方式處理 NH 3 氣提 : 脫氣膜 ( 液相交換 ) 氣提濃縮觸媒燃燒液膜法電透析循環冷卻脫氮濕壁塔 NH 4+ 離子交換 : 離子交換沸石吸附 RO 分離 NH4OH,29% 116,000 處理系統氨水 29% 氫氧化銨正光阻去除液微量廢液委外 STRIPPER 聚合物洗淨物微量酸鹼中和 - 氫氧化四甲銨二氧化矽蝕刻液 113,514 HF 處理系統 - 氫氟酸氟化銨光阻清潔液 32,941 酸鹼中和 - 界面活性劑圖 3 氨氮廢水各種處理方式早期廢水中使用較普遍的氨氮處理方式為折點加氯硝化脫氮之生物處理 ; 但近幾年來因應氨氮廢水組成處理效率以及佔地面積發展的方式為脫氣膜 ( 液相交換 ) 氣提濃縮觸媒燃燒等方式, 其適用性及初設成本也大不相同, 如圖四所示 :

技術成熟度高化學加藥離子交換折點加氯加藥成本高生物硝化脫氮佔地面積大 RO 分離氣提脫除硫酸銨副產物需委外處理 Anammonx 1. 微生物生長速度慢, 啟動速度慢, 如遇操作異常時復機較費時 2. 微生物長時需碳量較傳統方式低觸媒分解 1. 初設成本較高 2. 加強系統熱回收薄膜蒸餾 1. 佔地面積小 2. 硫酸銨副產物需委外處理 3 須注意薄膜積垢問題汽提回收 1.

01 0.1 1 wt% 圖 4 各種氨氮廢水處理方式適用性及技術成熟度針對氨氮廢水以氣提脫除及吸附方式濃縮產生硫酸銨之方式概述如下典型氣提脫除方式的特點 : 利用硫酸作為吸收液, 並產生硫酸銨的副產物 ; 其優勢為技術成熟且穩定, 惟副產物的再利用, 目前於台灣並不普及傳統式氣提塔處理氨氮流程, 如圖五所示 : 此方法流程簡單, 處理效果穩定, 建設費和運行費較低

3 技術成熟度高化學加藥離子交換折點加氯加藥成本高生物硝化脫氮佔地面積大 RO 分離氣提脫除硫酸銨副產物需委外處理 Anammonx 1. 微生物生長速度慢, 啟動速度慢, 如遇操作異常時復機較費時 2. 微生物長時需碳量較傳統方式低觸媒分解 1. 初設成本較高 2. 加強系統熱回收薄膜蒸餾 1. 佔地面積小 2. 硫酸銨副產物需委外處理 3 須注意薄膜積垢問題汽提回收 1. 回收製成氨水 2. 加強系統熱回收低高級氧化技術廢水中氨氮濃度電透析 wt% 圖 4 各種氨氮廢水處理方式適用性及技術成熟度針對氨氮廢水以氣提脫除及吸附方式濃縮產生硫酸銨之方式概述如下典型氣提脫除方式的特點 : 利用硫酸作為吸收液, 並產生硫酸銨的副產物 ; 其優勢為技術成熟且穩定, 惟副產物的再利用, 目前於台灣並不普及傳統式氣提塔處理氨氮流程, 如圖五所示 : 此方法流程簡單, 處理效果穩定, 建設費和運行費較低但必須注意是否易生成水垢, 因為在大規模的氨吹脫氣提塔中, 生成水垢是一個嚴重的操作問題同時, 為了防止吹脫出的氨氮造成二次污染, 需要在氣提塔後設置氨氮吸收裝置圖 5 傳統式氣提塔處理氨氮流程近十年來, 脫氣膜製造商發展出有別於氣提塔 (stripper) 之液相氣相之液相液相的吸收方式其特點為初設成本與佔地面積較少操作方便系統管路最短, 且無氨氣逸散等問題傳統的氣提塔, 因考量質傳的效率, 一般而言所需高度約 7m~ 15m, 而脫氣膜的方式含操作的空間, 設置單層的脫氣模組則僅需約 1.5~ 2m, 因此處理的設備可設置於室內硫酸溶液與 NH 3(g) 反應形成硫酸銨的示意圖如圖 6 NH 3(g) 在經薄膜與硫酸結合過程中, 可產生的 25%~32% 硫酸銨濃度圖 6 使用脫氣膜作為氨氮載體液相交換以膜的技術來處理廢水中的氨氮, 係近年來在國外被廣泛的應用, 因為低成本高效率之緣故於此製程中的氨氣相, 是處於膜和液相中產生反應, 氨的氣相出現短暫, 幾乎不會造成洩漏的危害, 是較安全的製程, 因較高的 ph 水質, 可利用中和後再使用 RO 膜等技術來去除水中的鹽類, 可得到較佳的水質, 使得水回收再利用得以實現另亦可以觸媒分解方式, 將水體中的氨氮氣提轉為氨氣後, 再經觸媒塔進行分解為氮氣其特點為, 廢水中的氨氮經過了液相傳輸之氣相後, 再經由觸媒進行裂解一般而言, 氨氮可直接經由加熱進行裂解, 惟所需的溫度較高 (> 800 ), 較為耗能, 利用觸媒降低裂解氨氮的活化能, 使其能於約 350 進行反應, 同時觸媒能經由氨氣的裂解中獲得部份的熱能配合系統內部的熱回收設備維持該反應於連續進流時可以持續的進行氨氣的分解作用, 其簡易流程圖如圖 7 所示圖 7 氨氮經觸媒分解系統簡易流程圖 3. 硫酸銨廢液回收原理與流程半導體廠氨氮廢水資源化回收再利用, 主要分為廠內系統 On site 的水回收系統並建置脫氣膜系統 : 產出硫酸銨 ( 如圖 8); 與廠外 Off site 系統 : 氨水製造與精製純化系統, 再製為氨水 / 硫酸鈣

On site 的氨氮廢水處理系統主要包含 : 機台排放之鹼性廢水回收處理系統鹼性洗滌塔排放廢水處理系統及機台排放之氟化銨廢水處理系統其中主要處理單元包含 : 活性碳去除 H 2O 2 單元逆滲透單元脫氣膜與硫酸銨循環槽單元硫酸銨清運槽 p 指溶液上的氣體分壓 (partial pressure); c 是溶液的體積莫耳濃 (molarconcentration) k 則是亨利常數,k

4 On site 的氨氮廢水處理系統主要包含 : 機台排放之鹼性廢水回收處理系統鹼性洗滌塔排放廢水處理系統及機台排放之氟化銨廢水處理系統其中主要處理單元包含 : 活性碳去除 H 2O 2 單元逆滲透單元脫氣膜與硫酸銨循環槽單元硫酸銨清運槽 p 指溶液上的氣體分壓 (partial pressure); c 是溶液的體積莫耳濃 (molarconcentration) k 則是亨利常數,k 會因溶劑和溫度的不同而變化 (k 的常用單位是 atm L mol-1 或 Pa m3 mol-1) 當溫度愈高, 氨氣在水中之溶解度愈低, 蒸氣壓愈高, 如圖 9 所示圖 8 氨氮廢水回收與處理簡易流程圖廠內氨氮廢水處理系統, 首先以活性碳去除 H 2O 2 以保護後續的處理滲透膜組水回收設備應用活性碳進行 H 2O 2 催化的機制包含 : 直接催化 (direct catalysis) 及間接催化 ( indirect catalysis) 經活性碳去除 H 2O 2 之廢水, 接著以 RO 滲透膜組進行水回收將 RO 操作在 ph<6.5, 此時未解離氨 (NH 3) 不會釋出, 絕大數以溶解態之銨離子存在於液態中, 此時以逆滲透 RO 可去除水中的銨離子及其他的不純物, 針對廢水中氨的去除率可達 99% 以上, 滲透水亦可作為次級用水外, 亦可更進一步再次純化回到純水前處理系統, 作為純水未來水源之一銨離子在 RO 單元濃縮水側被濃縮成原來濃度的 6-7 倍高濃度氨氮廢水, 利用亨利定律, 利用氨氮的氣相濃度和液相濃度之間的氣液平衡關係, 將其 ph 調高大於 10.8 以上, 在鹼性環境的 NH 4+ -N 將轉變為 NH 3(g) 進行分離氣體在溶液中之溶解性質與氣體的分壓有關, 可由亨利定律 (Henry s law) 來說明 : 在常溫下, 某氣體溶解於某溶劑中的體積莫耳濃度和該溶液達成平衡的氣體分壓成正比亨利定律的公式可表示如下 : 圖 9 NH 3 於不同溫度時於水中的型態另外, ph 會影響銨離子在水中的平衡, 當高溫高 ph 將有利於氨以氣態存在利用高 ph 值, 將銨離子轉變為氣態氨氣, 穿越非極性薄膜, 將與 H 2SO 4 反應形成硫酸銨 ; 利用一至多段之脫氣膜 MD, 並調整廢水和硫酸兩者流速上的比例, 可達到 99% 的氨去除率及得到高濃度的 30% 硫酸銨溶液外運, 作進一步的資源化處理為確定系統運轉後實驗可靠性, 以膜面積之相對流量做相對實驗, 並確認最後處理去處率及硫酸銨濃度如採用 6 MD( 膜面積 : 42m 2 ) 實驗模組 ( 如圖十 ), 單位廢水流通量可達 0.95CMH, 即實廠 14 MD ( 膜面積 : 220m 2 ) 單位廢水流通量設計值為 5CMH 圖 10 氨氮脫氣膜測試機組其中 :e 近似於 , 是自然對數的底數 ;

實驗模組流程如下 : 將硫酸銨再製回氨水是透過簡易的硫銨分離程序, 將銨離子經 ph 調整, 再經由氣提塔轉化為高濃度的氨氣後, 再經由純水循環吸收後, 可再製為 20% 以上的氨水其反應方程式如下所示 : 圖 11 氨氮脫氣膜實驗模組流程圖經廠外脫氣膜組實驗 ( 圖 11) 之結果顯示 : 單支脫氣膜一般可達 90~95.

8% 95.5% 99.6% 另氨氮廢水與循環硫酸之流量比亦為重要之操作參數之一, 如氨氮廢水與循環硫酸之流量比為 1:2 時 ( 如表 4), 串聯二支之氨氮去除率可達 99.6~99.6%; 當流量比降為 1:1.5 時 ( 如表 5), 串聯二支之氨氮去除率稍下降至 98.4~99.

5 實驗模組流程如下 : 將硫酸銨再製回氨水是透過簡易的硫銨分離程序, 將銨離子經 ph 調整, 再經由氣提塔轉化為高濃度的氨氣後, 再經由純水循環吸收後, 可再製為 20% 以上的氨水其反應方程式如下所示 : 圖 11 氨氮脫氣膜實驗模組流程圖經廠外脫氣膜組實驗 ( 圖 11) 之結果顯示 : 單支脫氣膜一般可達 90~95.5% 氨氮去除率, 如硫酸 ph 控制失當, 去除率會下降至 56.8%; 串聯二支這種氨水再製的程序又被稱為氣提吸收法有別於氣提脫除方式為其吸收液為純水而非硫酸其流程如圖 12 所示 : 可提升去除率至 95.5 % ~ 99.3%, 如表 3 所示 : 表 3 脫氣膜效率 MD 單支去除率 92.9% 95.5% 56.8% 90.0% MD 二支串聯去除率 99.5% 99.8% 95.5% 99.6% 另氨氮廢水與循環硫酸之流量比亦為重要之操作參數之一, 如氨氮廢水與循環硫酸之流量比為 1:2 時 ( 如表 4), 串聯二支之氨氮去除率可達 99.6~99.6%; 當流量比降為 1:1.5 時 ( 如表 5), 串聯二支之氨氮去除率稍下降至 98.4~99.3% 表 4 氨氮廢水流量 : 硫酸流量比為 1:2 圖 12 硫酸銨轉為氨水簡易流程圖因此,Off site 的處理方法與流程主要在考量 : 去化產品之通路操作的經濟性, 與產品的高品質要求等因此有回收商發展 : 將硫酸銨之銨的部分 : 回製氨水外, 並將硫酸銨之硫酸的部分 : 生產石膏板 ( 硫酸鈣 ) 流程主要概念是將硫酸氨添加熟石灰的處理程序, 第一階段先添加消石灰調整硫酸氨酸鹼值將硫酸氨變成氨水及硫酸鈣, 第二階段再以表 5 氨氮廢水流量 : 硫酸流量比為 1:1.5 蒸餾純化提濃成 25% 的氨水, 供工業用途使用冰機 Ca(OH) 2 廢氣水洗塔外氣 30%(NH 4 ) 2 SO 4 攪拌槽氣提塔冷凝器 #1 氨水吸收塔故由以上實驗所得參數, 據此設計廠內氨氮處理系統脫水機濾出液儲槽吸收塔氨水儲槽冷凝器 #2 無論是傳統式的氣提塔或是脫氣膜的方式以石膏乾燥機真空 pump 氨水儲槽硫酸為吸收液時, 其副產物皆為硫酸銨, 一般而言硫酸銨的用途為農業用肥料, 惟依據台灣法規規定 : 石膏儲槽 CaSO 4-2H 2 O 蒸氣鍋爐氨水槽車 25%,NH 4 OH (NH 3 Base) 經工業使用之硫酸銨無法製成肥料, 只能乾燥後作為工業用途之硫酸銨因此, 另多種資源化的可能性須再開發, 比如 : 將硫酸銨再製回氨水回去化市場作為工業用途, 供應給空氣污染設備之排煙脫硝使用或其他工業化學品之原料圖 13 Off site 氨水濃縮精製系統流程圖將工廠回收之高濃度硫酸銨廢水, 與氫氧化鈣 ( 俗稱消石灰 ), 在混合攪拌槽反應, 會生成硫酸鈣 (CaSO 4 2H 2O),( 俗稱石膏 ) 及氨氣 (NH 3) 有關 (NH 4) 2SO 4+Ca(OH) 2 之反應機制, 如 PENG-Xiao-yu

6 等人 (Wang Yun-yan, et al., 2008) 成所提出之硫酸鈣在 ph= 時會有一最小溶解度 g/l 當高 ph 時,Ammonia 會轉為 NH 3( 氣態 ), 將此帶有氨氣 (NH 3) 之硫酸鈣溶液至石膏水過濾器進行過濾, 濾餅以逆洗方式排出至石膏脫水系統脫水乾燥後銷售至石膏工廠回收, 帶有氨氣的濾液加鹼中和殘留的硫酸根離子並經超過濾器過濾後, 再抽至氣提塔進料槽將氨氣提塔進料槽帶有氨氣的濾液抽送到氨氣提塔, 利用輸送至氨氣提塔的蒸汽提升濾液的溫度, 濾液中氨會從液相揮發至氣相, 達到氨氣氣提濃縮的效果氨氣提塔塔底的液體則排放至廢水處理系統氨氣提塔塔頂經濃縮帶有氨氣的氣體送至氨吸收塔, 利用輸送至氨吸收塔的冰水降溫並加超純水吸收氣相的氨氣生成氨水, 再送至氨水貯槽存放並銷售至氨水工廠回收 4. 結論隨著科技日益進步人類對於環保的意識也逐漸重視, 降低生產所排放的廢棄物對生態的影響為當前主要課題, 因此政府將逐漸針對降低氨氮的廢水排放及生物急毒性之影響所採取新的措施, 如可將氨氮廢水處理的同時, 除回收處理水外, 又將氨氮污染物創造為有經濟價值之副產品, 如硫酸銨, 可回收再利用將為最有效之解決辦法但硫酸銨回收產品之銷售市場, 一直是回收工作最頭痛的問題, 依國內法規 : 氨氮廢水處理所產生之硫酸銨, 屬於工業廢棄物, 無法直接當做肥料來使用, 只能回歸工業使用, 但受限於原有市場容納吞吐量, 與回收再利用產品之生產成本往往較新品原料來得高, 卻無法直接反映成本於售價上, 因此, 開闢新產品將硫酸銨轉換為工業級氨水或電子級氨水, 與產生副產品硫酸鈣 ( 石膏板 ), 將是回收再利用之新的里程碑, 並且可以實現企業對環境保護的承諾提昇企業形象及減少產品的碳足跡參考文獻 1. 任建新, 膜分離技術及其應用, 北京 : 化學工業出版社, 第頁 (2003) 2. 謝濬帆, 利用中空纖維薄膜接觸器結合醇胺水溶液吸收二氧化碳之研究, 碩士論文, 中原大學化學工程學系, 桃園 (2008) 3. 張仁志褚華甯韓恩山金傳, 氨氮廢液處理技術的發展, 中國環境管理干部學院學報, 第十五卷, 第三期, 第頁 (2005) 4. 李瑞華韋朝海吳超飛吳锦華谭展機盧彬, 吹脫法預處理焦化廢液中氨氮的條件試驗與工程應用, 環境工程, 第二十五卷, 第三期, 第 38-40,44 頁 (2007) 5. 黃海明蕭賢明晏波, 折點氯化處理低濃度氨氮廢液, 水處理技術, 第三十四卷, 第八期, 第 63-65,78 頁 (2008) 6. 段謨華, 張燕, 任丹萍, 陳建孟, 張國亮, 膜接觸器及其相關過程在廢水處理中的應用, 水處理技術, 第三十五卷, 第十一期, 第頁 (2009) 7. 塗保華張潔張雁秋, 影響短程硝化反硝化的因素, 工業安全與環保, 第三十卷, 第一期, 第頁 (2004) 8. 吳百力, 高濃度氨氮廢水處理技術及其發展趨勢,2006 年環境保護科學, 第 32 卷, 第二期 (2006) 9. Rangwala, H. A. "Absorption of Carbon Dioxide into Aqueous Solutions Using Hollow Filber Membrane Contactors," Jurnal of Membrane Science, 112, (1996) 10. Franken, A. C. M., Nolten, J. A. M., Mulder, M. H. V., Bargeman, D. and Smolders, C. A. "Wetting Criteria for the Applicability of Membrane Distillation," Journal of Membrane Science, 33, (1987) 11. Robinson, J. R. and Sims, M. J. "Method and System for Extracting a Solute from a fluid Using Dense Gas and a Porous Membrane," U.S.Patent, 112, (1996) 12. E.-E. Chang, Hao-Jan Hsing,Pen-Chi Chiang, Mei-Yin Chen, Jhieh-Yu Shyng(2008),The

7 chemical and biological characteristics of coke-oven wastewater by ozonation. 13. Eberhard Bock, Ingo Schmidt, Ralf Stüven, Dirk Zart(1995) Nitrogen loss caused by denitrifying Nitrosomonas cells using ammonium or hydrogen as electron donors and nitrite as electron acceptor. Archives of Microbiology 163,16-20 INNOVATIVE AMMONIA WASTEWATER IN GREEN RECYCLE operating ph of the wastewater containing ammonia nitrogen was controlled between 11.5 and 11.8 by the two-stage Membrane Contactors and the flow rate of the ammonia-nitrogen wastewater to the sulfuric acid was 1: 1.5-2, resulting Ammonia nitrogen removal rate of 80% to 85%, after the third paragraph of the degassing film reaches more than 95% of the ammonia removal rate. Keywords: Ammonia nitrogen treatment, degassing film, semiconductor process C.K Fu 1 C.C Hsu 2 Jimmy Wang 3 1 TSMC FAB14BP7 Facility Dep. Water Sec. Chief Engineer 2 TSMC FAB14BP7 Facility Dep. Water Sec. Engineer 3 TSMC FAB14B Facility Dep. manager ABSTRACT RCA Standard Clean-1 (ammonia + hydrogen peroxide) cleaning process is widely used in the semiconductor process to remove particle from the wafer surface, resulting in high concentrations of ammonia in tool drain. In order to comply with the discharge standard of ammonia. This paper introduce the main methods of ammonia nitrogen assessment in the factory: catalyst cracking, ANAMMOX biological treatment, sulfuric acid adsorption etc. According to mode field (pilot) and the realistic status of the semiconductor waste to conduct a comprehensive consideration of the overall assessment by the end of the final use of degassing membrane (Membrane Contactors) will be containing ammonia wastewater to sulfuric acid adsorption of ammonium sulfate into the liquid waste, and as industrial grade ammonium sulfate recovery and reuse. With two years of operational data, the

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Blue MosaicTemplate Presenter : K.H. Yang Your Logo Here 1. Introduction OUTLINE 高科技廠氨水使用現況 2. Ammonia Remove Analysis 氨氮處理方式比較 3. Ammonia Waste Water Resources Innovation 半導體廠氨氮廢水處理系統建置及最佳化半導體廠氨氮廢水副產物資源化 INTRODUCTION 前言