白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 介 紹 與 應 用 作 者 : 廖 界 程 張 維 哲 羅 文 期 摘 要 在 眾 多 高 科 技 產 業 中, 諸 如 半 導 體 平 面 顯 示 器 光 纖 通 訊 微 機 電 生 物 醫 學 與 電 子 封 裝 等, 由 於 微 結 構 表 面 輪 廓 的 準 確 性 決 定 了 產 品 的 效 能 與 功 能, 在 其 製 程 中 皆 需 針 對 微 結 構 的 表 面 輪 廓 品 質 進 行 監 測 有 鑑 於 此, 本 研 究 針 對 業 界 需 求 不 同 開 發 出 型 號 Chroma7501/7502 離 線 型 (off line) 以 及 Chroma7505 線 上 型 (on line) 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統, 如 圖 1(a) 與 圖 1(b), 使 用 創 新 的 垂 直 掃 描 演 算 法 與 暗 點 修 補 方 式, 可 濾 除 無 干 涉 資 料 點 的 影 響, 垂 直 解 析 能 力 最 高 達 到 0.1 nm, 量 測 重 複 度 可 達 到 2 nm(1σ), 並 具 備 多 種 檢 測 功 能, 對 於 斷 差 高 度 夾 角 面 積 體 積 粗 度 起 伏 以 及 薄 膜 厚 度 等 需 求, 提 供 一 個 快 速 且 精 確 的 檢 測 方 案 (a) Chroma7502 (b) Chroma7505 圖 1:Chroma 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 關 鍵 字 : 白 光 干 涉 垂 直 掃 描 三 維 檢 測 奈 米 尺 度 檢 測 1. 前 言 近 年 來 高 科 技 產 業 如 半 導 體 電 子 封 裝 平 面 顯 示 器 微 機 電 等 各 產 業 蓬 勃 發 展, 其 檢 測 應 用 需 求 也 相 對 龐 大, 目 前 各 產 業 皆 已 大 量 使 用 AOI 檢 測 機 台 取 代 人 工 檢 測, 但 由 於 製 程 尺 度 縮 小, 高 精 度 與 快 速 的 檢 測 能 力 發 展 更 顯 重 要, 故 AOI 檢 測 能 力 極 待 提 升 以 因 應 產 業 需 求, 而 探 討 AOI 檢 測 能 力 提 升 一 般 可 以 分 為 下 列 二 類 : (1) 在 檢 測 尺 度 的 需 求 上, 由 於 製 造 技 術 的 不 斷 提 升, 製 程 尺 度 縮 小, 奈 米 尺 寸 之 微 小 結 構 物 如 : LCD 間 隔 物 (spacer) 微 機 電 電 子 封 裝 等 高 科 技 產 品 之 檢 測 需 求 也 因 應 而 生, 故 檢 測 技 術 的 尺 度 亦 需 要 提 升 至 奈 米 等 級, 才 足 夠 解 析 產 品 製 程 以 確 保 良 率 (2) 在 檢 測 項 目 上, 除 了 瑕 疵 缺 件 汙 損 等 傳 統 二 維 方 向 的 檢 測, 在 製 程 溝 槽 深 度 長 晶 高 度 與 表 面 粗 糙 度 等 等 三 維 形 貌 的 檢 測 需 求, 也 成 為 檢 測 中 重 要 的 一 環 有 鑑 於 上 述 二 點, 發 展 奈 米 級 三 維 輪 廓 檢 測 系 統 為 產 業 迫 切 的 需 求, 並 且 為 我 國 產 業 升 級 必 備 之 工 具
分 析 現 有 的 三 維 檢 測 各 型 式 設 備, 如 圖 2 所 示, 探 針 式 輪 廓 儀 (Stylus Profiler) 屬 於 接 觸 式 的 量 測, 有 傷 害 待 測 物 表 面 的 疑 慮, 共 焦 式 顯 微 鏡 (Confocal gauge) 則 量 測 精 度 較 差, 至 於 掃 描 式 探 針 顯 微 鏡 (Scanning Probe Microscope) 雖 有 較 佳 的 水 平 與 垂 直 解 析 度, 但 量 測 速 度 慢 且 不 適 合 高 斷 差 測 量 相 較 於 前 述 幾 者, 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 的 特 性 有 以 下 優 點 : (1) 採 用 非 接 觸 式 量 測 技 術, 不 破 壞 待 測 物 體 表 面 (2) 面 量 測 而 非 逐 點 掃 描, 量 測 速 度 快 (3) 水 平 軸 方 向 上 可 達 微 米 解 析 度 與 厘 米 量 測 範 圍, 垂 直 軸 方 向 上 則 是 擁 有 奈 米 解 析 度 與 微 米 量 測 範 圍, 量 測 準 確 度 高 圖 2: 三 維 檢 測 技 術 的 規 格 2. 系 統 架 構 圖 3 為 本 研 究 提 出 之 Chroma7502 系 統 設 計 圖, 其 中 光 學 組 件 包 括 : 顯 微 鏡 鏡 組 白 光 光 源 以 及 取 像 模 組 ( 相 機 與 干 涉 物 鏡 鏡 頭 ), 提 供 干 涉 資 訊 的 建 立 與 影 像 擷 取, 光 機 機 構 組 件 主 要 用 來 輔 助 待 測 物 體 之 位 置 調 整, 以 方 便 使 用 者 進 行 影 像 對 焦 與 傾 斜 角 度 修 正 ; 掃 描 系 統 則 由 PZT 主 體 以 及 驅 動 控 制 器 所 組 成, 其 功 能 為 驅 動 干 涉 物 鏡 進 行 掃 描 由 光 學 光 機 以 及 電 控 系 統 組 件 所 組 成 之 白 光 干 涉 光 學 系 統, 經 由 系 統 校 正 後, 即 可 透 過 垂 直 掃 描 技 術 擷 取 待 測 物 體 的 三 維 輪 廓, 同 時 進 行 相 關 尺 寸 檢 測
圖 3: 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 示 意 圖 Chroma7501/7502 為 離 線 型 (Off line) 的 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統, 其 中 Chroma 7501 機 型 為 一 款 搭 配 四 軸 調 整 移 動 平 台 之 手 動 版 本 檢 測 機 型, 可 依 據 不 同 實 驗 作 彈 性 修 改, 最 適 用 於 業 界 研 發 單 位 及 學 術 界 使 用, 而 Chroma 7502 機 型 則 配 備 五 軸 電 動 以 及 一 軸 手 動 調 整 移 動 平 台 之 機 型, 該 機 型 在 短 短 的 幾 秒 鐘 之 內 無 需 繁 複 的 操 作, 系 統 即 可 自 動 將 待 測 物 體 調 整 至 最 佳 對 焦 位 置, 並 予 以 調 平 進 行 檢 測, 另 外, 透 過 電 腦 控 制 移 動 平 台 進 行 大 面 積 接 圖 檢 測, 水 平 軸 向 的 檢 測 範 圍 可 達 到 70 70mm, 並 可 依 據 客 戶 需 求 修 改 平 台 尺 寸 上 述 兩 種 機 型 皆 可 使 其 樣 品 不 需 前 處 理 即 可 進 行 非 破 壞 快 速 的 表 面 形 貌 檢 測 與 分 析 Chroma7505 為 線 上 型 (On line) 的 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統, 為 一 款 配 備 三 軸 電 動 大 行 程 移 動 平 台 的 機 型, 可 載 入 待 測 物 體 的 CAM 檔, 針 對 圖 檔 位 置 的 之 中 多 個 欲 檢 測 區 域 進 行 腳 本 編 輯, 並 依 據 腳 本 對 其 他 同 型 式 的 待 測 物 體 進 行 自 動 化 檢 測, 最 適 合 業 界 的 生 產 單 位 使 用, 可 有 效 提 升 檢 測 速 度, 為 兼 具 檢 測 精 度 與 速 度 的 線 上 型 自 動 化 三 維 檢 測 系 統 3. 量 測 原 理 與 系 統 校 正 3.1 白 光 干 涉 量 測 原 理 白 光 干 涉 原 理 是 利 用 白 光 同 調 性 短 不 易 產 生 干 涉 的 特 性, 透 過 頻 率 與 振 幅 相 近 的 光 波, 可 以 形 成 如 圖 4(b) 所 示 的 低 同 調 性 白 光 干 涉 波 包, 相 較 於 單 頻 光, 白 光 干 涉 有 雜 訊 少 的 優 點, 在 求 取 三 維 表 面 資 訊 上, 白 光 干 涉 利 用 兩 道 相 同 特 性 之 光 波 在 零 光 程 差 時 條 紋 對 比 最 明 顯 之 特 性, 來 判 定 零 光 程 差 的 發 生 位 置, 藉 此 取 得 待 測 物 體 的 三 維 表 面 形 貌 變 化
(a) 各 波 長 同 調 示 意 圖 (b) 白 光 干 涉 波 包 圖 4: 白 光 干 涉 波 包 形 成 示 意 圖 圖 5 為 白 光 干 涉 系 統 量 測 物 體 表 面 的 示 意 圖, 圖 中 表 示 物 體 表 面 起 伏 將 影 響 相 機 影 像 中 每 一 像 素 點 干 涉 波 包 的 發 生 高 度, 依 循 此 高 度 變 化, 求 取 干 涉 零 光 程 差 位 置, 即 可 決 定 出 該 像 素 點 之 待 測 物 體 高 度, 進 而 求 出 待 測 物 的 整 體 表 面 輪 廓 圖 5: 白 光 干 涉 量 測 示 意 圖 3.2 系 統 校 正 白 光 干 涉 系 統 為 確 保 量 測 的 準 確 性 品 質, 必 須 進 行 各 項 系 統 校 正, 主 要 的 校 正 項 目 有 相 機 正 交 垂 直 量 測 校 正 ( 高 度 校 正 ) 以 及 水 平 解 析 度 校 正 (1) 相 機 正 交 目 的 是 使 相 機 之 影 像 橫 縱 軸 方 向 與 移 動 平 台 的 X Y 軸 移 動 方 向 一 致 ; 若 無 法 使 方 向 一 致, 在 大 面 積 接 圖 量 測 時, 將 難 以 將 各 FOV(Field of view) 的 圖 像 資 訊 正 確 結 合 在 一 起 (2) 水 平 解 析 度 校 正 目 的 是 要 求 得 影 像 上 每 個 像 素 點 所 代 表 的 實 際 物 理 大 小, 衡 量 依 據 是 以 已 知 實 際 物 理 長 度 的 line pair 標 準 片 配 合 相 機 取 像 運 算, 計 算 出 對 應 的 像 素 點 投 射 在 物 體 表 面 的 大 小, 作 為 三 維 表 面 量 測 的 水 平 方 向 資 訊 依 據 (3) 垂 直 量 測 校 正 ( 高 度 校 正 ) 使 用 階 高 標 準 片 來 進 行 高 度 校 正 的 動 作, 使 系 統 準 確 性 可 以 追 朔 至 NIST 標 準, 以 確 保 三 維 表 面 量 測 高 度 方 向 的 準 確 性
3.3 量 測 前 處 理 白 光 干 涉 量 測 系 統 使 用 顯 微 干 涉 物 鏡, 由 於 景 深 較 短 因 此 常 造 成 使 用 者 量 測 時 的 對 焦 不 便, 此 外, 由 於 使 用 垂 直 掃 描 技 術, 故 垂 直 掃 描 範 圍 必 須 包 含 影 像 中 待 測 物 體 的 表 面 起 伏 範 圍, 若 是 待 測 物 體 表 面 傾 斜, 表 面 法 線 方 向 與 光 軸 存 在 一 傾 角 如 圖 6(a), 則 掃 描 範 圍 必 須 相 對 加 大 以 涵 蓋 物 體 表 面 的 干 涉 波 包, 如 此 一 來, 掃 描 範 圍 與 掃 描 時 間 將 相 對 增 加, 進 而 影 響 整 體 的 量 測 速 度 Scan range Scan range (a) 待 測 物 體 傾 斜 時 的 垂 直 掃 描 範 圍 (a) 待 測 物 體 調 平 後 的 垂 直 掃 描 範 圍 圖 6: 待 測 物 體 的 傾 角 導 致 掃 描 範 圍 加 大 本 研 究 提 出 之 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 配 備 自 動 化 掃 描 平 台, 藉 由 垂 直 軸 自 動 化 移 動 平 台 的 掃 描 機 制, 搭 配 快 速 的 自 動 對 焦 演 算 法, 可 有 效 輔 助 使 用 者 找 到 最 佳 的 對 焦 位 置, 除 此, 藉 由 自 行 開 發 的 自 動 調 平 演 算 法, 搭 配 傾 斜 調 整 平 台 可 快 速 地 將 待 測 物 調 平, 將 物 體 表 面 調 整 與 光 軸 垂 直 如 圖 6(b) 所 示, 在 調 平 完 畢 之 後, 系 統 垂 直 掃 描 範 圍 可 縮 小 至 物 體 表 面 起 伏 範 圍 即 可, 如 此 便 可 縮 短 量 測 所 需 時 間 有 效 提 升 量 測 效 率 3.4 垂 直 掃 描 流 程 本 研 究 提 出 之 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 所 使 用 的 垂 直 掃 描 技 術, 在 垂 直 掃 描 過 程 中,PZT 將 帶 動 干 涉 物 鏡 進 行 垂 直 移 動 進 行 掃 描 取 像, 由 相 機 取 得 的 影 像 資 料 可 觀 察 出 干 涉 條 紋 隨 著 待 測 物 體 的 表 面 起 伏 而 變 化, 以 下 圖 7 是 系 統 進 行 垂 直 掃 描 的 流 程 圖
圖 7: 垂 直 掃 描 流 程 圖 3.5 垂 直 掃 描 演 算 法 設 計 系 統 將 經 過 垂 直 掃 描 取 像 後 得 到 的 資 料 串 列, 透 過 垂 直 掃 描 演 算 法 計 算 影 像 中 每 個 像 素 點 的 干 涉 波 包 資 訊, 求 出 波 包 峰 值 Imax, 最 後 根 據 已 知 的 掃 描 步 幅 大 小, 換 算 出 該 像 素 點 對 應 的 待 測 物 體 表 面 高 度 圖 8: 干 涉 波 包 示 意 圖 目 前 商 用 白 光 干 涉 量 測 系 統, 最 常 使 用 質 心 演 算 法 (Centroid) 來 計 算 表 面 高 度, 該 演 算 法 會 因 光 線 繞 射 的 效 應, 在 某 些 位 置 產 生 錯 誤 高 度 計 算, 造 成 量 測 結 果 輪 廓 出 現 奇 異 點 現 象 本 研 究 提 出 適 用 於 白 光 干 涉 垂 直 掃 描 的 MFPC 演 算 法, 該 演 算 法 全 名 為 Maximum Folding Phase Compensation Algorithm, 此 演 算 法 結 合 白 光 干 涉 條 紋 對 稱 於 零 光 程 差 處 干 涉 強 度 在 零 光 程 差 處 最 大 及 干 涉 條 紋 頻 率 固 定 等 特 性, 發 展 出 一 種 精 簡 三 維 形 貌 量 測 演 算 法 MFPC 演 算 法 與 習 知 方 法 相 較,MFPC 演 算 法 速 度 快 精 確 度 高 且 強 固 性 佳, 解 決 習 知 方
法 在 速 度 與 強 固 性 上 的 缺 失 本 研 究 所 提 出 之 演 算 法 乃 先 比 對 波 包 亮 度 數 值, 找 出 亮 度 對 大 值 即 為 約 略 零 階 條 紋 處, 再 利 用 波 包 對 稱 性, 計 算 確 切 的 零 階 條 紋 處, 最 後 再 使 用 相 位 補 償 方 法, 求 得 零 光 程 差 精 準 位 置, 此 演 算 法 具 有 下 列 技 術 特 點 : (1) 無 需 高 頻 率 波 前 處 理 : 利 用 亮 度 最 大 位 置 接 近 零 階 條 紋 的 特 性, 直 接 比 對 獲 得 約 略 零 階 條 紋 處, 與 其 他 方 法 不 同, 無 需 對 波 包 資 訊 進 行 高 頻 率 波 前 處 理 (2) 摒 除 雜 訊, 精 準 快 速 : 因 白 光 同 調 長 度 短, 干 涉 條 紋 僅 存 於 小 範 圍 內, 有 了 約 略 零 階 條 紋 位 置 後, 即 可 利 用 波 包 對 稱 特 性 定 義 計 算 範 圍, 計 算 出 確 切 零 階 條 紋 處, 避 免 因 雜 訊 影 響 造 成 零 階 條 紋 位 置 的 錯 誤 判 斷, 同 時 計 算 範 圍 縮 小, 判 斷 方 式 為 簡 單 的 加 減 運 算, 故 計 算 速 度 快 (3) 精 確 性 提 升 : 正 確 的 定 義 出 零 階 干 涉 條 紋 位 置, 更 利 用 相 位 資 訊, 提 升 精 確 性 由 以 上 可 知,MFPC 演 算 法 以 最 精 簡 的 方 式 表 達 了 白 光 干 涉 的 特 性, 不 但 大 幅 減 少 運 算 量 提 高 抗 雜 訊 的 能 力, 在 運 算 速 度 及 準 確 度 上 同 時 也 超 越 了 其 他 的 方 法 3.6 暗 點 偵 測 與 填 補 因 待 測 物 體 種 類 繁 多, 表 面 條 件 的 情 況 各 異, 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 在 實 際 檢 測 上, 可 能 因 物 體 表 面 某 些 區 域 反 射 率 低 表 面 吸 光 或 是 表 面 斜 率 太 大, 導 致 物 鏡 無 法 正 確 收 到 反 射 光, 因 而 在 垂 直 掃 描 過 程 中 無 法 產 生 干 涉, 該 部 分 資 料 我 們 稱 之 為 暗 點 區 域, 若 將 該 區 域 的 資 訊 引 入 垂 直 掃 描 演 算 法 之 中, 將 導 致 輪 廓 計 算 錯 誤 情 形 發 生 為 因 應 上 述 現 象, 本 研 究 之 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 加 入 了 暗 點 區 域 的 判 別 及 修 補 機 制, 圖 9 為 暗 點 區 域 的 垂 直 掃 描 資 訊 示 意 圖, 其 中 圖 9(a) 為 盲 孔 量 測 輪 廓 的 上 視 圖, 黑 色 部 分 區 域 即 是 暗 點 區 域, 圖 9(b) 為 孔 內 斜 坡 部 分 經 垂 直 掃 描 後 所 獲 得 的 干 涉 資 訊, 由 於 表 面 斜 率 過 大 導 致 物 鏡 無 法 收 集 反 射 光 獲 得 正 確 的 干 涉 資 訊 而 本 研 究 之 系 統 依 照 干 涉 訊 號 的 強 弱 將 暗 點 區 域 偵 測 出 來, 圖 10 則 是 經 過 軟 體 方 式 修 補 暗 點 區 域 後 的 盲 孔 量 測 輪 廓, 其 修 補 方 式 乃 依 照 暗 點 區 域 週 邊 的 正 常 量 測 點 高 度 值 作 為 參 考, 擬 合 出 暗 點 區 域 的 高 度 值, 由 圖 10(b) 三 維 輪 廓 可 看 出 孔 內 斜 坡 已 被 適 當 的 修 補, 有 效 的 去 除 暗 點 區 域 降 低 量 測 上 的 誤 差 因 物 體 表 面 反 射 角 過 大 導 致 無 干 涉 資 訊 (a) 修 補 前 孔 表 面 輪 廓 上 視 圖 (b) 暗 點 區 域 的 掃 描 資 訊 圖 9: 暗 點 區 域 的 垂 直 掃 描 資 訊 示 意 圖
(a) 修 補 後 孔 表 面 輪 廓 上 視 圖 (b) 修 補 後 孔 表 面 輪 廓 三 維 示 意 圖 圖 10: 經 過 修 補 後 的 孔 表 面 輪 廓 4. 量 測 應 用 4.1 其 他 形 式 量 測 由 於 各 個 產 業 的 待 測 物 體 眾 多, 依 照 量 測 面 積 大 小 物 體 材 質 特 性 等 不 同, 量 測 需 求 也 不 盡 相 同, 針 對 這 點, 本 研 究 提 出 之 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 亦 開 發 數 種 形 式 的 特 殊 量 測 功 能, 來 滿 足 業 界 多 樣 的 量 測 需 求 (1) 薄 膜 量 測 對 於 TFT LCD 光 學 鍍 膜 等 具 有 表 面 薄 膜 的 待 測 物 體, 製 造 過 程 中 常 需 要 檢 測 薄 膜 厚 度, 以 確 認 製 程 參 數 是 否 正 確, 為 符 合 此 需 求, 本 研 究 發 展 了 薄 膜 量 測 模 式, 為 薄 膜 量 測 提 供 一 個 新 的 解 決 方 案, 根 據 薄 膜 中 不 同 層 別 的 干 涉 波 包 發 生 位 置 不 同 之 特 性, 以 及 已 知 薄 膜 材 質 折 射 率 的 情 況 下, 可 精 確 量 測 薄 膜 厚 度 (2) 大 面 積 接 圖 量 測 對 於 需 要 量 測 的 樣 品 表 面 區 域 大 於 一 個 FOV 視 野, 使 用 者 可 以 藉 由 大 面 積 接 圖 量 測 功 能, 設 定 水 平 方 向 的 掃 描 起 始 與 終 點, 針 對 各 個 FOV 位 置 進 行 量 測 後, 再 進 行 多 筆 輪 廓 資 料 的 縫 合, 如 圖 11(b), 即 可 得 到 大 面 積 的 樣 品 表 面 輪 廓 (a) 各 個 FOV 接 圖 前 (b) FOV 接 圖 後 的 範 圍 圖 11: 大 面 積 接 圖 量 測 示 意 圖
4.2 檢 測 應 用 實 例 以 下 為 本 研 究 之 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 的 應 用 實 例, 待 測 物 體 的 表 面 輪 廓 以 三 維 圖 形 介 面 表 示, 並 列 出 應 用 例 所 對 應 的 檢 測 項 目 Photo spacer Rough surface Prism sheet Laser via Lens array 圖 12: 各 待 測 物 體 的 檢 測 實 例 Bumps 表 1: 應 用 實 例 與 檢 測 項 目 應 用 例 Photo spacer(lcd 液 晶 間 隔 物 ) Rough surface Prism sheet Laser via Bump Lens array 可 檢 測 項 目 間 隔 物 面 積 以 及 體 積 各 形 式 表 面 粗 糙 度, 表 面 波 紋 角 度 峰 谷 之 間 的 水 平 距 離 孔 徑 孔 深 孔 真 圓 度 以 及 容 積 高 度 直 徑 面 積 以 及 體 積
本 研 究 之 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 可 針 對 表 面 輪 廓 資 料 進 行 分 析 修 正 並 具 備 檢 測 結 果 3D 的 圖 形 顯 示 界 面, 提 供 完 整 的 表 面 形 貌 呈 現, 此 外, 更 提 供 超 過 150 種 線 或 面 的 輪 廓 參 數 計 算, 其 中 包 含 粗 度 起 伏 平 整 度 頂 點 與 谷 點 等 相 關 參 數 資 料, 而 在 資 料 後 處 理 與 編 修 方 面, 提 供 高 通 濾 波 低 通 濾 波 快 速 傅 立 葉 轉 換 以 及 尖 點 移 除 空 間 濾 波 等 工 具 提 供 使 用 者 進 行 高 / 低 / 帶 通 訊 號 濾 除, 且 軟 體 亦 具 備 多 項 式 擬 合 區 域 成 長 整 面 及 多 區 域 調 平 方 法, 可 靈 活 運 用 於 資 料 處 理 上 5. 結 論 與 未 來 工 作 本 研 究 所 提 出 的 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統, 垂 直 解 析 能 力 最 高 可 達 到 0.1 nm, 量 測 重 複 度 在 1σ 下 可 達 到 2 nm, 其 階 高 檢 測 功 能 可 應 用 於 微 結 構 斷 差 缺 陷 形 貌 等, 如 LCD spacer 微 鏡 片 Bump 高 度, 甚 至 PCB 盲 孔 的 孔 徑 與 深 度 檢 測 皆 可 快 速 準 確 測 得, 而 表 面 粗 糙 度 波 紋 平 坦 度 平 行 度 共 面 度 膜 厚 等 檢 測 功 能 更 適 合 用 於 材 料 材 質 或 是 加 工 品 質 分 析, 除 此, 系 統 所 具 備 的 暗 點 偵 測 與 修 補 能 力, 可 有 效 過 濾 無 法 產 生 干 涉 的 資 料 點 區 域, 呈 現 待 測 物 體 的 真 實 表 面 輪 廓, 提 升 檢 測 資 訊 的 可 靠 度, 綜 合 以 上 介 紹 說 明 可 得 知, 白 光 干 涉 儀 在 微 奈 米 等 級 的 微 結 構 檢 測 上 實 為 不 可 或 缺 的 利 器 雖 然 白 光 干 涉 系 統 其 檢 測 速 度 皆 高 過 一 般 奈 米 檢 測 系 統, 如 AFM SEM 等, 但 為 了 符 合 產 業 界 線 上 檢 測 的 速 度 需 求, 因 此, 在 未 來 工 作 上 檢 測 速 度 的 提 升 實 為 白 光 干 涉 量 測 技 術 發 展 的 重 要 課 題, 在 兼 顧 檢 測 速 度 與 精 度 的 前 提 下, 白 光 干 涉 三 維 檢 測 系 統 有 潛 力 發 展 成 快 速 線 上 檢 測 設 備, 並 可 將 業 界 的 自 動 化 檢 測 項 目 由 原 有 的 二 維 影 像 檢 測, 提 升 到 三 維 輪 廓 檢 測, 提 供 更 多 更 完 整 的 自 動 化 光 學 檢 測 方 案 6. 參 考 文 獻 [1] 廖 界 程 林 耀 明 張 維 哲, 白 光 干 涉 系 統 之 自 動 對 焦 之 探 討,AOI Forum & Show 2005 [2] 廖 界 程 林 耀 明 張 維 哲, 白 光 干 涉 系 統 之 樣 品 自 動 平 準 化,AOI Forum & Show 2006 [3] 形 貌 測 量 方 法 及 其 測 量 裝 置, 中 華 民 國 專 利, 專 利 號 碼 : I274849 [4] 於 正 交 表 面 形 貌 圖 中 任 意 截 線 方 向 形 成 截 面 輪 廓 之 方 法, 中 華 民 國 專 利, 專 利 號 碼 :I282407 [5] 干 涉 量 測 系 統 之 自 動 平 準 方 法, 中 華 民 國 專 利, 專 利 號 碼 : I274848 [6] 整 合 型 干 涉 掃 描 方 法, 中 華 民 國 專 利, 專 利 號 碼 :I269861 [7] 表 面 形 貌 之 暗 點 區 域 的 修 補 方 法, 中 華 民 國 專 利, 專 利 號 碼 :I281020