成功大學微奈米科技研究中心機台設備與費用列表 備註 : 若需使用本中心儀器, 需先通過安全講習課程, 安全講習課程費率為 300 元 /3 小時除特別標註外, 本表費率 : 自行操作 代工 以時計費 ; 課程 認證 以套計費 臺綜大 ( 成大 中興 中正 中山 ) 師生自行操作及課程享有 8 折優惠, 代工享有 9 折優惠 新進老師另享有更多優惠, 詳情請參考以下連結 (http://cmnst.ncku.edu.tw/ezfiles/23/1023/img/1002/636605965.pdf) 更新日期 :2019/02/27 奈米微影製程 新臺幣 ( 元 )/NTD 0000 製程整合代工服務 (Integration Service) 收取製程整合案件總費用的 10% 1101 電子束微影系統 (Electron Beam Lithography System) EBW SEM 2200( 原 ) 1200 3300( 原 ) 2200( 優 ) 3400( 原 ) 1 2000( 原 ) 1980 3300( 優 ) 5100( 原 ) 1620 2880( 優 ) 3200( 原 ) 1 63000( 原 ) 12800 24000( 優 ) 94500( 原 ) 3455( 優 ) 13600( 原 ) 2764 5180( 優 ) 20400( 原 ) Ultra 不開放 3400 2720 5100 1102 雙面對準 /UV 光感奈米壓印 (Double-Side Mask Aligner/UV Imprinter) 600 480 900 1500 1350 2250 2250 1800 3350 750 600 1125 奈米微 影製程 微影 Lithography 1103 1105 單面光罩對準機 (Single-Side Mask Aligner) CO 2 雷射雕刻系統 (CO 2 Laser Micro-Machining System) 500 400 750 1400 1260 2100 2100 1680 3150 700 560 1050 400 320 600 1300 1170 1950 1950 1560 2900 650 520 975 1106 旋轉塗佈儀 (Spin Coater ) 不開放不開放 600 480 900 1107 旋轉塗佈儀 II (Spin Coater II ) 400 320 600 800 720 1200 600 480 900 1108 光罩繪製 (AutoCAD Design) 1000 800 1500 1201 反應式離子蝕刻機 (Reactive Ion Etching) 800 1200 1800 1620 2700 2700 2160 4050 900 720 1350 蝕刻 Etching 1202 奈米深蝕刻系統 ( 感應耦合離 子電漿 ) (Inductive Coupled Plasma Etching System) 一般 1200 960 1800 2300 2070 3450 3 小時以上 960 768 1440 1840 1656 2760 4900( 優 ) 7350( 優 ) 3920 12000( 原 ) 3450 2760 5175
8 小時以上 840 672 1260 1610 1449 2415 1203 1204 1205 化學濕式操作台 ( 無塵室進出 ) (Chemical Wet Bench) (Clean, Organic, Acid, Alkaline Processing) 化學藥品儲藏櫃 (Chemical Storage Cabinet) 金屬蝕刻系統 ( 感應耦合電漿離子蝕刻機 ) (ICP RIE System) 200/24hr 160 200/24hr 800 720 1200 包含於 旋轉塗佈儀 Spin Coater 課程 220 176 330 1800 1440 2500 2500 2000 3500 3500( 優 ) 7000( 原 ) 12000( 原 ) 1500 3000 1206 光罩清洗 (Mask cleaning) 1000 800 1500 後處理 Back End 1301 晶圓切割機 (Wafer Cutting Machine) 500 400 750 1350 1215 2025 1302 1303 奈米壓印 - 熱壓成型奈米轉印機 (Nano Hot Embosser) 二氧化碳超臨界乾燥機 (CO 2 Supercritical Dry Release Machine) 1304 打線機 (Wire Bonding) 500 400 750 3700( 原 ) 1600 6050( 原 ) 1350 1080 2025 500 400 750 1500 1350 2250 2250 1800 3750 750 600 1125 350 280 525 1350 1215 2025 1080 1 2250( 原 ) 1000( 優 ) 2000( 原 ) 1 2250( 原 ) 800 1440 3000( 原 ) 3750( 原 ) 675 540 1000 750 600 1125 1307 膠態試片盒 (Gel Box) 每組 5 個 500 元 ( 不分學 / 業界 ) 1308 玻璃藍寶石切割 500 400 1500 奈米表面與磊晶 奈米表 面與磊 薄膜成長 Deposition/ 2101 電漿輔助式分子束磊晶系統 (Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy System) ( 預約時段以 8hr 為單位 ) 5000 4000 7500 9000 8100 13500 10000( 優 ) 22500( 原 ) 8000 20000( 優 ) 33750( 原 ) 9000( 原 ) 2400 8000( 優 ) 13500( 原 ) 晶 Furnace 2102 電子束蒸鍍機 I (E-beam Evaporator I) 900 ( 含靶材 ) 720 1350 1900 1710 2850 5700( 原 ) 2000 3700( 優 ) 8550( 原 ) 1900( 原 ) 2850( 原 )
2103 電子束蒸鍍機 II (E-beam Evaporator II) 900 ( 含靶材 ) 720 1350 1900 1710 2850 5700( 原 ) 2000 3700( 優 ) 8550( 原 ) 1900( 原 ) 2850( 原 ) 2104 磁控濺鍍機 (Magnetron Sputter Deposition System) 700 ( 不含靶材 ) 560 1050 1700 1530 2550 5100( 原 ) 2000 3700( 優 ) 7650( 原 ) 1700( 原 ) 2550( 原 ) 2105 共濺鍍機 (Co-Sputter Deposition System) 800 ( 不含靶材 ) 1200 1800 1620 2700 3500( 優 ) 7200( 原 ) 2800 6600( 優 ) 10800( 原 ) 2700( 原 ) 1040 4050( 原 ) 2106 聚對二甲基苯沉積系統 (Parylene Vapor Deposition System) 150( 優 ) 300( 原 ) 120 225( 優 ) 450( 原 ) 1100 990 1650 500( 優 ) 2200( 原 ) 400 750( 優 ) 3300( 原 ) 250( 優 ) 1100( 原 ) 200 375( 優 ) 1650( 原 ) 依 graphene 面積收費 ( 不分學 / 業界 ) 2108 3 吋化學氣相沉積石墨烯設備 (3 Inch Chemical Vapor Deposition for Graphene) graphene 成長 不開放 1x1~2x2 cm 2 : 700/cm 2 ( 優 ); 1000/cm 2 ( 原 ) 3x3~6x6 cm 2 : 350/cm 2 ( 優 ); 750/cm 2 ( 原 ) 7x7 cm 2 : 250/cm 2 ( 優 ); 500/cm 2 ( 原 ) 不開放 退火 / 熱氧化 1000 800 1500 掃描探針 SPM/ Electronic Property 奈米壓痕 Indentation 2109 1&2 吋化學氣相沉積石墨烯設備 (1 & 2 Inch Chemical Vapor Deposition for Graphene ) 500 400 750 2900 2320 4350 975 780 1465 1 1440( 優 ) 4500( 優 ) 2110 原子層沉積系統 Picosun (Atomic Layer 2250( 原 ) 3750( 原 ) 3000( 原 ) 5000( 原 ) Deposition System Picosun) 以上費用僅包含儀器使用費, 材料費用另計 ( 根據 cycle 數 ): Al2O3( 校內 :5, 業界 :6) HfO2( 校內 :10, 業界 :12) SiO2( 校內 :8, 業界 :10) TiO2( 校內 :6, 業界 : 8) 2201 表面粗度儀 (Alpha-Step Profilometer) 200 1 400( 優 ) 600( 優 ) 160 300 1000 900 1500 960 320 ( 含針 ) 2250( 原 ) 500( 原 ) 750( 原 ) 原子力顯微鏡 (Atomic Force Microscope, 2202 NTMDT-AFM) 多功能掃描探針顯微鏡 2204 (Scanning Probe Microscope, SPM) 半導體元件量測平台 (Measurement 2205 Station for Electrical Characterization) 奈米壓痕試驗機 I ( 含三維量測 ) 2301 (Nano-Indentation System I, MTS XP) 奈米壓痕試驗機 II 2302 (Nano-Indentation System II; MTS G200) 300 2250( 優 ) 500( 優 ) 750( 優 ) 240 450 不開放 1200 400 ( 不含針 ) 5850( 原 ) 8775( 原 ) 1950( 原 ) 2925( 原 ) 900 720 1350 1600( 帶針 ) 1440( 帶針 ) 2400( 帶針 ) 2000 1600 3000 670 536 1000 2600( 無針 ) 2340( 無針 ) 3900( 無針 ) 1 400( 優 ) 600( 優 ) 200 160 300 1000 900 1500 960 320 2250( 原 ) 500( 原 ) 750( 原 ) 600 2600( 優 ) 3900( 優 ) 480 900 1600 1440 2400 2080 ( 含針 ) 7425( 原 ) 11138( 原 ) 2475( 原 ) 3700( 原 ) 700 2600( 優 ) 3900( 優 ) 560 1050 1700 1530 2550 2080 ( 含針 ) 7425( 原 ) 11138( 原 ) 2475( 原 ) 3700( 原 )
2303 奈微拉伸試驗機 (Micro/Nano Tensile Tester) 300 240 450 1200 1080 1800 3600( 原 ) 960 1 5400( 原 ) 400( 優 ) 320 600( 優 ) 奈米材料分析 試片製備 Sample Preparation 分析雙束型聚焦離子束 I EDS 3101 (Dual Beam-Focused Ion TEM Beam I, FEI Nova-200) sample omni probe 精密離子拋光機 ( PIPS) + 3102 研磨拋光機 (Grinder and Polisher) 3103 鍍金機 (Sputter Coater) 1600( 優 ) 1900( 原 ) 2300( 原 ) 1200 2250 1280 2850( 原 ) 1200 2250 1600 2750( 優 ) 3450( 原 ) 2600( 優 ) 2700( 優 ) 3100( 原 ) 2 3000( 原 ) 3500( 原 ) 2340 2430 2520 2700 4000( 優 ) 4500( 原 ) 5000( 優 ) 1 5500( 原 ) 18600( 原 ) 5000( 優 ) 5500( 原 ) 5500( 優 ) 6000( 原 ) 9600 18000( 優 ) 27900( 原 ) 4650 3720 8250 200 160 300 1000 900 1500 850 680 1225 350 280 475 100 秒內 150 元,101 秒起, 每 1 秒 1.5 元 奈米材 料分析 掃描式 電子顯微鏡 SEM 3104 研磨拋光機 (Grinder and Polisher) 150 120 250 1000 900 1500 包含於 3102 精密離子拋光機 (PIPS) 課程 3105 3201 雙束型聚焦離子束 II 分析 EDS (Dual Beam-Focused Ion TEM Beam II, Helios G3 CX) sample easy lift 高解析熱場發射掃描式電子顯微鏡 I (FE-SEM I w EDS/CL, JEOL JSM-7000F) 3000( 原 ) 2900( 優 ) 3400( 原 ) 1920 3500( 優 ) 5500( 原 ) 2000 4000( 優 ) 6000( 原 ) 1920 3500( 優 ) 5500( 原 ) 2320 4000( 優 ) 6000( 原 ) 3 4800( 原 ) 3900( 優 ) 5000( 原 ) 4000( 優 ) 5200( 原 ) 4200( 優 ) 5400( 原 ) 3040 3120 3200 3360 7000( 原 ) 7000( 優 ) 7000( 優 ) 7500( 優 ) 700 560 1050 1800 1620 3000 SEM 7000/EDS 800 1200 1900 1710 3500 4800 3820 7200 1425 1140 2625 SEM 7000/CL 800 1200 1900 1710 3500
SEM 7000/EBW 900 720 1350 不開放 3202 高解析熱場發射掃描式電子顯微鏡 II (FE-SEM II w EDS/EBSD, JEOL 800 1200 1900 1710 3500 JSM-7001F) SEM 7001/EDS 900 720 1350 2000 1800 3800 5050 4040 7575 1500 1200 2850 SEM 7001/EBSD 1000 800 1500 2100 1890 4000 5040 4032 7560 3204 3301 桌上型掃描式電子顯微鏡 300 240 450 1100 990 1650 2200 1760 3300 1100 880 1650 (Tabletop SEM) 穿透式電子顯微鏡 (TEM, JEOL 9000( 優 ) 800 1200 2000 1800 3500 4800 3000 2400 5250 JEM-2010) 12000( 原 ) 1 TEM 2010/EDS 900 720 1350 2000 1800 3500 穿透式 高解析場發射掃描穿透式電子顯微鏡 (FE-TEM w EDS/EELS, JEOL JEM-2100F) 1000( 優 ) 800 2300( 原 ) 1800 3600 電子顯微鏡 TEM 3302 TEM 2100F/EDS 1100( 優 ) 1300( 原 ) 880 1600( 優 ) 1950( 原 ) 2100( 優 ) 2400( 原 ) 1890 3700 26300( 原 ) 4800 9000( 優 ) 39450( 原 ) 7200( 原 ) 1600 11100( 原 ) 3303 TEM 2100F/EELS In-Situ 奈米壓痕試驗機 (In-Situ Nano-Indentation System @ TEM) 1040 1 2250( 原 ) 2160 4500 1000 800 1500 2000 1800 4000 3000 2400 4500 1500 1200 3000 FIB + TEM 套餐 ( 以片計費, 每片包含 1.5hr FIB 與 1.5hr TEM) 3101+3302-1 TEM2100+FIB I. 套餐 不開放 不開放不開放 6000 5400 11000 3101+3302-2 TEM2100+FIB I. 套餐 + EDS 不開放 不開放不開放 6500 5850 12000 3105+3302-1 TEM2100+FIB II. 套餐 不開放 不開放不開放 7500 6750 13500 3105+3302-2 TEM2100+FIB II. 套餐 + EDS 不開放 不開放不開放 8000 7200 14500 生醫暨非破壞性分析 生醫暨 非破壞 光學顯微鏡 Optical 4101 多光子激發掃描顯微鏡 (Multiphoton Excitation Microscopy) 1600( 原 ) 2400( 原 ) 1600( 優 ) 2600( 原 ) 1440 3900( 原 ) 3200 2560 4800 800 1200
分析 Microscopy 光學檢測 Property Analysis/ Defection 4102 共軛焦顯微鏡 (Confocal Microscope) 600 480 900 1600 1440 2400 4103 4104 4105 4201 4202 4203 4204 光學顯微鏡 ( 實驗室進出 ) (Optical Microscope) 100/24hr 80 100/24hr 共軛焦 3D 光學表面形貌量測儀 (Nano Focus) 暫不定價 暫不定價 暫不定價 暫不定價 3D 雷射共軛焦顯微鏡 (3D Measuring Laser Microscope) 450 360 675 1100 990 1650 2200 1760 3300 550 440 825 微拉曼及微光激發光譜儀 (Micro-Raman & Micro-PL 600 480 900 1600 1440 2400 3200 2560 4800 800 1200 Spectrometer) 微拉曼及微光激發光譜儀 (Micro-Raman & Micro-PL Spectrometer) 含低溫 800 1200 1900 1710 2850 4750 3800 7100 1900 1520 2850 拉曼光譜儀 / 顯微鏡 (Raman Spectrometer/Microscopes) 600 480 900 1600 1440 2400 3200 2560 4800 800 1200 傅立葉轉換紅外光光譜儀 385( 優 ) 310( 優 ) 580( 優 ) 1085( 優 ) 980( 優 ) 1630( 優 ) 2200( 優 ) 3300( 優 ) 810( 優 ) 1220( 優 ) (Fourier Transform 1760 648 550( 原 ) 440( 原 ) 825( 原 ) 1550( 原 ) 1395( 原 ) 2325( 原 ) 3150( 原 ) 4725( 原 ) 1160( 原 ) 1740( 原 ) Infrared Spectrometer) 紫外光 - 可見光 - 近紅外光分光光譜儀 250 200 375 1050 945 1575 1050 840 1575 525 420 788 (UV/Visible/NIR Spectrophotometer) 4205 橢圓偏光儀 (Ellipsometer) 450 360 675 1450 1305 2175 4206 接觸角量測儀 (Contact Angle Meter) 200 160 300 1100 990 1650 1160( 優 ) 1600 928 2500( 原 ) 3800( 原 ) 1450( 原 ) 1000( 優 ) 500( 優 ) 800 400 2200( 原 ) 3300( 原 ) 825( 原 ) 4207 膜厚量測儀 (Nano Spec) 暫不定價暫不定價暫不定價暫不定價 1740( 優 ) 2175( 原 ) 750( 優 ) 1230( 原 ) 4301 X 光繞射儀 (X-Ray Diffractometer) 300 240 450 1000 900 1500 2500 2000 3750 750 600 1125 晶體分析 Lattice Microanalysis 4302 4303 動態光散射儀 (Dynamic Light Scattering) 奈米粒子追蹤分析儀 (Nanoparticle Tracking Analysis) 250 200 375 1000 900 1500 1180 944 1770 500 400 750 300 240 450 900 810 1350 1750 1440 2625 500 400 750 4501 超高速落地型離心機 4 小時 ( 含 ) 內 200 160 300 (Beckman Optima 第 5 至第 8 小時 180 144 270 700 630 1050 1200 960 1800 450 360 675
XPN-90 Ultracentrifuge) 第 9 至第 12 小時 160 128 240 第 12 小時 ( 含 ) 以上 130 104 195 代工費用需加上機台時數費用