篇 名 : 微 觀 世 界 - 淺 談 原 子 力 作 者 : 蔡 億 穎 台 中 一 中 高 一 22 班 謝 楷 立 台 中 一 中 高 一 22 班 0
壹 前 言 今 日 我 們 所 處 的 社 會, 科 學 發 展 一 瀉 千 里, 拜 這 些 科 技 之 賜, 我 們 能 有 如 此 便 捷 的 生 活 而 科 學 之 所 以 能 如 此 的 日 新 月 異, 儀 器 的 發 明 可 說 是 功 不 可 沒, 在 許 多 工 具 被 發 明 前, 人 們 只 能 藉 由 五 官 來 探 索 自 然, 其 能 觸 及 的 範 圍 有 限, 又 容 易 有 謬 誤 ; 等 到 如 望 遠 鏡 出 現 後, 從 此, 人 們 的 視 野 開 闊 了, 上 至 天 文, 下 至 細 胞, 甚 至 是 分 子 原 子 都 不 是 問 題 而 在 許 多 有 關 化 學 材 料 化 工 半 導 體 地 質 生 物 的 領 域 中, 有 關 固 體 表 面 的 資 訊 是 相 當 重 要 的, 早 期 獲 得 此 類 訊 息 的 方 法 是 光 學 (OM), 目 前, 較 高 解 析 度 之 此 類 訊 息 則 是 由 掃 描 式 電 子 (SEM) 掃 描 隧 穿 式 (STM) 及 原 子 力 (AFM) 來 取 得 假 如 傳 統 光 學 是 用 " 看 " 的 話, 原 子 力 就 有 點 類 似 用 " 摸 " 的, 探 針 可 以 因 為 與 樣 品 間 的 原 子 作 用 力 而 產 生 偏 移, 然 後 再 以 雷 射 測 量 其 偏 移 量 很 幸 運 的, 我 們 有 機 會 參 加 原 子 力 (AFM) 的 實 作 訓 練 課 程, 並 也 對 此 產 生 濃 厚 的 興 趣, 因 此, 在 這 裡 將 這 屬 於 掃 瞄 式 探 針 (SPM) 家 族 的 原 子 力 顯 微 鏡 (AFM) 作 一 簡 單 的 探 討 及 整 理 貳 正 文 ㄧ 掃 描 式 探 針 顯 微 術 的 介 紹 掃 描 式 探 針 顯 微 術 (Scanning Probe Microscopy, SPM) 是 在 1980 年 代 初 期 所 發 展 出 的 一 種 新 的 技 術 的 總 稱, 主 要 是 利 用 極 微 小 的 探 針 對 樣 品 表 面 進 行 檢 測, 檢 測 的 解 析 度 可 達 到 奈 米 甚 至 原 子 尺 寸 的 等 級 除 了 試 片 的 表 面 形 貌 外, 也 可 以 呈 現 出 樣 品 表 面 與 次 表 面 的 三 度 空 間 表 面 特 徵 它 亦 具 有 量 測 試 片 表 面 材 料 軟 硬 程 度 及 特 性 的 功 能, 且 可 在 大 氣 環 境 下 進 行 檢 測, 故 其 應 用 領 堿 不 斷 地 擴 大 因 有 別 於 之 前 已 發 展 成 熟 的 光 學 (Optical Microscope,OM) 及 電 子 (Electron Microscope, EM), 而 又 被 稱 為 繼 光 學 電 子 後 的 第 三 代 1
常 用 比 較 表 ( 表 ) 橫 向 解 析 度 縱 向 解 析 度 成 像 範 圍 成 像 環 境 樣 品 準 備 成 份 分 析 光 學 (OM) 掃 描 式 電 子 (SEM) 穿 透 式 電 子 (TEM) 掃 描 探 針 (SPM) 200 奈 米 1 奈 米 原 子 級 原 子 級 20 奈 米 10 奈 米 無 原 子 級 1 毫 米 1 毫 米 0.1 毫 米 0.1 毫 米 無 限 制 真 空 真 空 無 限 制 無 鍍 導 電 膜 手 續 繁 複 無 有 有 有 無 二. 原 子 力 的 發 明 1982 年 瑞 士 蘇 黎 世 IBM 實 驗 室 的 研 究 員 賓 尼 希 (G.Binning) 和 羅 雷 爾 (H.Rohrer) 發 明 掃 描 穿 隧 (Scanning Tunneling Microscope,STM), 為 最 早 的 SPM 主 要 利 用 導 電 性 的 探 針 接 近 導 電 性 的 樣 品 表 面 時 因 量 子 力 學 的 穿 隧 原 理 會 產 生 極 小 的 穿 隧 電 流 (tunneling current), 利 用 不 同 的 取 樣 方 式, 進 而 描 繪 出 樣 品 表 面 形 貌 二 人 也 因 這 項 發 於 1986 年 獲 得 諾 貝 爾 物 理 獎 殊 榮 賓 尼 希 (G.Binning), 蓋 博 (C.F.Quate) 和 魁 特 (C.Gerber) 三 人 再 於 1986 年 發 明 原 子 力 (Atomic Force Microscope,AFM) 在 SPM 家 族 中, 以 測 量 探 針 和 樣 本 表 面 間 作 用 力 的 SFM 為 最 大 分 支, 而 本 篇 所 要 介 紹 的 則 是 在 SFM 之 中 最 常 見 也 最 早 出 現 的 AFM 2
SPM SPM 掃 掃 瞄 瞄 式 式 探 針 STHM SCAM 掃 描 熱 力 電 容 SNOM 掃 瞄 式 近 場 光 學 SFM SFM 鏡 掃 描 力 顯 微 鏡 STM 掃 描 穿 隧 摩 擦 力 原 子 力 電 子 力 磁 力 LFM 側 向 力 AFM 原 子 力 EFM 靜 電 力 MFM 磁 力 鏡 SMM 表 面 電 位 SKPM 掃 描 凱 爾 文 探 針 掃 瞄 式 探 針 (SPM) 家 族 分 支 圖 三. 原 子 力 (AFM) 的 操 作 原 理 1. 操 作 原 理 原 子 力 是 以 探 針 與 樣 品 之 間 的 原 子 作 用 力, 包 括 : 機 械 接 觸 力 凡 德 瓦 力 毛 吸 力 化 學 鍵 電 力 磁 力 溶 劑 力 等 作 為 交 互 作 用, 使 探 針 產 生 偏 移, 然 後 3
再 由 上 面 的 雷 射 去 測 量 其 偏 移 量 其 基 本 儀 器 主 要 由 四 個 部 份 所 組 成 : 壓 電 陶 瓷 掃 瞄 器 探 針 及 懸 臂 雷 射 二 極 體 四 象 限 的 光 偵 測 器 首 先, 樣 品 被 放 置 於 X Y Z 三 軸 向 的 壓 電 陶 瓷 掃 描 器 上, 使 用 雷 射 二 極 體 照 射 於 探 針 的 懸 臂 背 面 並 反 射 到 四 象 限 光 偵 測 器 上, 在 測 量 過 程 中 因 探 針 產 生 偏 移, 再 藉 由 電 路 訊 號 回 饋 到 伺 服 器, 控 制 三 軸 向 的 壓 電 陶 瓷 掃 瞄 器, 使 探 針 在 Z 方 向 回 到 原 本 的 反 射 點 的 位 置, 及 探 針 與 樣 品 間 的 作 用 力 維 持 固 定, 則 可 由 反 射 點 的 位 移 來 得 知 探 針 的 訊 號 偏 移 量, 而 X Y 方 向 控 制 探 針 掃 描, 經 由 X Y Z 三 軸 的 訊 號 回 饋 紀 錄, 即 可 獲 得 樣 品 的 表 面 形 貌 影 像 反 射 鏡 光 偵 測 器 雷 射 監 視 器 樣 品 探 針 與 懸 臂 Z 軸 伺 服 系 統 電 腦 PZT Z 軸 控 制 壓 電 掃 描 器 X,Y 軸 控 制 X,Y 掃 描 系 統 AFM 原 理 示 意 圖 2. 主 要 構 造 A. 壓 電 陶 瓷 AFM 所 用 之 掃 描 器, 都 是 由 壓 電 材 料 所 構 成, 如 壓 電 陶 瓷 PZT((Pb(Zr,Ti)O3)) 壓 電 材 料 其 結 構 堅 硬, 特 性 為 當 改 變 給 予 的 電 壓 時, 材 料 的 形 狀 亦 改 變, 反 之 亦 然, 且 可 有 高 頻 的 響 應, 應 用 層 面 極 廣 PZT 的 電 壓 解 析 度 約 為 0.1~ 數 nm/v 的 程 度, 使 用 於 形 變 小 的 工 具 上 4
壓 電 陶 瓷 通 電 形 變 示 意 圖 壓 電 陶 瓷 非 線 性 示 意 圖 B. 探 針 及 懸 臂 AFM 掃 描 所 使 用 的 探 針 是 由 針 尖 (Tip) 及 懸 臂 (Cantilever) 所 組 成, 是 整 個 AFM 核 心 所 在, 探 針 的 形 狀 對 圖 像 的 解 析 度 有 極 大 的 影 響 每 一 支 探 針 皆 有 一 個 自 然 的 共 振 頻 率 (Resonance Frequency) 及 彈 性 係 數 (Spring Constant), 二 者 取 決 於 懸 臂 的 材 質 和 它 的 幾 何 形 狀 及 長 度 探 針 尖 其 曲 率 半 徑 約 在 數 十 個 nm 之 間, 通 常 由 矽 (Si) 或 氮 化 矽 (Si3N4) 所 製 作 而 成, 近 年 來 亦 有 由 奈 米 碳 管 所 製 作 而 成 的 探 針, 可 獲 得 更 佳 的 解 析 度 而 針 尖 的 部 分, 亦 可 作 一 些 處 理, 如 鍍 上 金 屬 膜, 以 製 作 出 導 電 的 探 針 懸 臂 探 針 懸 臂 的 OM 影 像 (200 倍 ) 探 針 的 SEM 影 像 C. 雷 射 二 極 體 大 部 分 使 用 半 導 體 雷 射 光 源 波 長 660~685nm 的 半 導 體 雷 射 光 源 利 用 儀 器 裝 置, 可 將 雷 射 精 確 的 打 在 探 針 之 懸 臂 上, 再 利 用 儀 器 微 調 裝 置, 正 確 的 將 雷 射 光 反 射 至 光 偵 測 器 上, 使 光 偵 測 器 接 收 訊 號 5
D. 四 象 限 的 光 偵 測 器 一 般 由 光 電 二 極 體 所 組 成 的 四 象 限 光 偵 測 器 ( 亦 有 二 象 限 ), 目 的 是 由 受 光 面 接 受 入 射 的 雷 射 光 量 再 以 比 例 產 生 電 壓 輸 出, 經 由 迴 路 回 饋 到 掃 描 器 四 象 限 的 光 偵 測 器 分 為 四 個 區 域 (A, B, C, D), 當 雷 射 光 反 射 至 光 偵 測 器, 經 由 各 區 域 的 偵 測 光 量, 經 過 比 較 後 可 獲 得 懸 臂 的 位 移 變 化, 此 種 方 法 稱 之 為 光 束 偏 折 法 或 光 槓 桿 法 因 為 光 偵 測 器 的 體 積 可 以 做 的 非 常 地 小, 小 體 積 對 於 AFM 的 設 計 來 說 是 一 項 重 要 的 指 標, 再 加 上 以 光 槓 桿 法 偵 測 微 小 的 位 移 是 一 種 最 簡 單 且 最 容 易 處 理 的 方 法, 使 得 光 槓 桿 法 成 為 AFM 儀 器 中 最 常 採 用 的 方 法 雷 射 探 針 及 懸 臂 探 針 及 懸 臂 PZT 壓 電 掃 描 器 光 槓 桿 法 示 意 圖 ( 註 六 ) 四. 原 子 力 (AFM) 的 操 作 順 序 打 開 電 源 ( 三 處 ) 打 開 空 氣 幫 浦 並 確 認 防 震 桌 狀 態 把 探 針 放 到 夾 具 上 將 樣 品 放 到 壓 電 陶 瓷 上, 並 調 整 高 度 放 上 夾 具, 鎖 緊 蓋 子 打 開 雷 射 光 學 6
調 整 ADD FFM DIF 值, 蓋 上 隔 音 罩 選 擇 探 針 型 號, 調 整 Q-curve 值, 自 動 進 針 設 定 參 數 範 圍 開 始 掃 描 校 正 存 檔 光 學 螢 幕 隔 音 罩 軟 體 操 作 電 腦 防 震 桌 工 作 伺 服 器 整 體 外 觀 示 意 圖 掃 描 台 雷 射 反 射 鏡 光 偵 測 器 調 整 器 掃 描 器 粗 調 昇 降 鈕 光 偵 測 器 訊 號 切 換 鍵 訊 號 顯 示 面 板 主 機 構 造 示 意 圖 五. 原 子 力 (AFM) 的 操 作 模 式 原 子 力 的 操 作 模 式 分 為 以 下 三 種 : 1. 接 觸 式 (Contact mode) 以 接 觸 式 模 式 操 作 時, 探 針 在 掃 描 時 輕 輕 接 觸 樣 品 的 表 面 在 此 操 作 模 式 下, 探 針 與 樣 品 表 面 間 的 作 用 力 是 原 子 間 排 斥 力 (Repulsive Force) 使 探 7
針 偏 移, 用 反 饋 來 控 制 力 為 定 值, 而 獲 得 探 針 對 應 於 掃 描 各 點 的 位 置 變 化, 進 而 得 到 樣 品 表 面 形 貌 的 圖 像 由 於 排 斥 力 對 距 離 非 常 敏 感, 所 以 接 觸 式 較 容 易 得 到 原 子 解 析 度 但 因 探 6 針 與 樣 品 間 的 接 觸 面 積 極 小, 雖 然 其 作 用 力 很 小, 約 只 有 10 ~ 10 10 牛 頓, 仍 會 損 壞 樣 品, 尤 其 是 軟 性 材 質 ( 如 生 物 樣 品 ), 但 是 較 大 的 作 用 力 通 常 會 取 得 較 佳 的 解 析 度, 所 以, 選 擇 適 當 的 作 用 力 便 十 分 重 要 了, 一 方 面 可 降 低 探 針 的 損 壞, 而 以 尖 銳 的 針 尖 掃 描 樣 品 表 面, 可 得 到 ` 較 佳 的 影 像 ; 另 一 方 面, 保 護 樣 品 的 完 整 性 而 不 會 被 破 壞 2. 非 接 觸 式 (Non-Contact Mode) 此 操 作 模 式 是 利 用 原 子 間 遠 距 吸 引 力 來 進 行 檢 測, 不 過 此 吸 引 力 對 距 離 的 變 化 率 非 常 小, 靈 敏 度 也 較 斥 力 差, 故 操 作 起 來 也 較 不 穩 定 此 操 作 方 法 的 發 展 原 因 乃 是 為 了 解 決 接 觸 式 損 壞 樣 品 的 缺 點 操 作 時, 探 針 通 常 被 一 振 盪 器 驅 動, 以 一 固 定 振 幅 做 振 盪, 而 探 針 與 材 料 表 面 總 維 持 著 一 定 的 距 離 (10nm~100nm) 非 接 觸 式 AFM 一 般 只 有 50nm 的 解 析 度, 一 般 來 說 都 使 用 於 真 空 環 境, 因 在 大 氣 中 掃 描 時, 易 受 表 面 汙 染 物 ( 例 如 : 水 膜 ) 的 影 響, 造 成 影 像 失 真 3. 輕 拍 式 (Tapping Mode) 輕 敲 式 AFM 乃 是 介 於 接 觸 式 和 非 接 觸 式 之 間 其 原 理 和 非 接 觸 式 的 原 理 相 似, 但 其 振 幅 較 非 接 觸 式 小, 而 且 每 一 振 動 週 期 中, 探 針 在 振 盪 底 部 和 樣 品 表 面 接 觸 一 次, 由 於 樣 品 表 面 的 高 低 起 伏, 使 得 懸 臂 的 振 幅 改 變, 經 由 回 饋 系 統, 即 可 得 描 繪 出 樣 品 表 面 的 形 貌 此 種 操 作 模 式 其 解 析 度 比 非 接 觸 式 高 為, 雖 然 而 與 接 觸 式 比 較, 解 析 度 較 差, 但 破 壞 樣 品 的 機 率 卻 大 為 降 低, 同 時 幾 乎 沒 有 作 用 於 探 針 與 樣 品 的 側 向 力, 沒 有 移 動 探 針 描 繪 樣 品 時 所 產 生 的 摩 擦 力 此 操 作 模 式 時, 由 於 樣 品 表 面 性 質 的 不 同, 造 成 探 針 頻 率 的 改 變 而 產 生 相 位 差 (Phase Lag), 而 能 額 外 獲 得 相 位 圖 (Phase Image) 8
輸 入 信 號 輸 出 信 號 懸 臂 相 位 延 遲 小 壓 電 晶 體 相 位 延 遲 大 掃 描 方 向 樣 品 硬 吸 著 力 小 軟 吸 著 力 大 相 圖 成 像 示 意 圖 4. 掃 描 模 式 優 缺 點 比 較 掃 描 模 式 比 較 表 接 觸 式 非 接 觸 式 輕 拍 式 (2-3 nm) ( 低 於 20 nm) (5 nm) 掃 描 時, 針 尖 與 樣 品 利 用 原 子 間 遠 距 吸 以 探 針 振 盪 方 式, 探 針 表 面 輕 輕 接 觸, 原 子 引 力 凡 得 瓦 力 來 在 試 片 上 跳 動, 當 探 針 間 產 生 極 微 弱 的 排 進 行 檢 測 不 過 此 吸 振 盪 至 波 谷 時, 微 接 觸 斥 力, 使 探 針 偏 移, 引 力 對 距 離 的 變 化 樣 品 由 於 樣 品 的 表 面 基 本 原 理 用 反 饋 來 控 制 力 為 率 非 常 小, 必 須 使 用 不 平, 原 子 間 作 用 力 使 定 值, 而 獲 得 探 針 對 調 變 技 術 來 增 加 訊 探 針 振 幅 改 變, 利 用 回 應 於 掃 描 各 點 的 位 號 對 雜 訊 比 饋 控 制, 便 能 取 得 高 度 置 變 化, 從 而 得 到 樣 影 像 品 表 面 形 貌 的 圖 像 接 觸 面 積 小, 過 大 的 由 於 探 針 和 樣 品 間 解 析 度 介 於 接 觸 式 與 作 用 力 會 損 壞 樣 沒 有 接 觸, 樣 品 沒 有 非 接 觸 式 之 間, 且 破 壞 品, 尤 其 是 對 軟 性 材 被 損 壞 的 顧 慮, 但 受 樣 品 的 機 率 大 為 降 質 不 過, 較 大 的 作 空 氣 中 樣 品 表 面 汙 低 但 由 於 高 頻 率 探 針 優 缺 點 用 力, 通 常 會 得 到 較 染 物 的 影 響 其 解 析 敲 擊, 對 很 硬 的 樣 品, 佳 的 解 析 度 由 於 排 度 一 般 只 有 50 nm, 探 針 針 尖 可 能 受 損, 甚 斥 力 對 距 離 非 常 敏 而 在 超 高 真 空 中 則 至 留 下 殘 餘 物 在 試 片 感, 所 以 較 易 得 到 原 可 得 原 子 級 解 析 度 表 面 子 解 析 度 9
六. 應 用 材 料 科 學 磁 性 材 料 金 屬 & 合 金 光 學 表 面 液 晶 化 妝 品 紀 錄 媒 體 硬 碟 機 光 碟 機 讀 寫 頭 CD DVD SPM 生 命 科 學 細 胞 移 動 DNA 蛋 白 質 染 色 體 病 毒 細 菌 結 構 ; 交 互 作 用 生 物 表 面 動 態 變 化 半 導 體 業 矽 晶 圓 表 面 影 像 IC 檢 測 半 導 體 元 件 特 定 位 置 參 雜 光 阻 測 量 電 化 學 電 鍍 電 拋 光 樣 品 表 面 化 學 及 時 影 像 腐 蝕 性 監 測 SPM 應 用 示 意 圖 除 了 應 用 於 表 面 檢 測 外, 掃 描 式 探 針 也 可 運 用 微 小 的 探 針 對 各 種 樣 品 表 面 進 行 不 同 的 改 質 或 修 飾 的 工 作, 這 種 技 術 稱 為 掃 描 式 探 針 微 影 術 (Scanning Probe Lithography,SPL) 以 SPM 為 基 礎 的 各 種 微 影 術 在 近 年 來 引 起 廣 泛 的 興 趣, 因 為 它 的 操 作 比 一 般 傳 統 的 微 影 術 相 較 簡 單 許 多, 並 且 可 以 精 確 的 控 制 奈 米 結 構 及 其 位 置, 根 據 不 同 的 圖 案 構 成 機 制 可 達 到 的 解 析 度 製 作 速 度 的 能 力 以 及 再 現 性, 大 致 可 以 分 為 幾 種 方 式 : 原 子 操 控 (Atomic Manipulation) 機 械 力 修 飾 (Mechanical Modification) 局 部 氧 化 (Local Oxidation) 阻 劑 電 子 曝 光 (Electron Exposure of Resist) 墨 水 筆 奈 米 微 影 術 (Dip-Pen Nanolithography), 以 下 介 紹 幾 種 常 見 的 應 用 : 1. 原 子 操 控 (Atomic Manipulation) 掃 描 式 探 針 的 探 針 除 了 可 以 進 行 表 面 檢 測 之 外, 亦 可 直 接 用 於 操 控 奈 米 粒 10
子 分 子, 甚 至 單 一 原 子 以 製 作 出 奈 米 結 構 探 針 可 以 推 動 或 滑 動 在 基 材 表 面 的 粒 子 且 排 列 達 原 子 級 精 確 度 除 了 直 接 推 動 粒 子 之 外, 亦 可 藉 由 探 針 與 樣 品 間 的 靜 電 力 或 化 學 力, 選 擇 性 的 移 動 個 別 的 原 子 原 子 操 控 對 於 製 作 出 原 子 結 構 以 及 原 子 尺 度 下 的 特 性 研 究 為 有 強 而 有 力 的 工 具, 但 是 其 缺 點 在 於 排 列 圖 案 的 速 度 慢, 而 且, 原 子 操 控 所 製 作 出 的 圖 樣 也 同 時 是 SPL 技 術 的 最 極 限 的 解 析 度 原 子 操 控 示 意 圖 1990 年 IBM 研 究 人 員 首 度 利 用 探 針 在 金 屬 鎳 表 面 用 35 個 惰 性 氣 體 氙 原 子 組 成 IBM 三 個 英 文 字 母 2. 機 械 力 修 飾 (Mechanical Modification) 探 針 可 被 當 作 機 械 工 具, 經 由 雕 刻 (engraving) 或 挖 溝 (plowing) 的 動 作, 可 控 制 一 較 大 的 作 用 力 施 加 於 軟 質 樣 品, 如 : 軟 性 薄 膜 光 阻 劑 等, 即 可 利 用 探 針 製 作 出 想 要 的 圖 案, 如 洞 線 陣 列 等 這 些 圖 案 可 直 接 被 拿 來 使 用, 或 是 進 一 步 處 理 機 械 力 修 飾 示 意 圖 利 用 機 械 力 修 飾 在 塗 佈 聚 碳 酸 酯 (Polycarbonate) 的 矽 基 板 以 製 作 文 字 及 人 面 圖 案 11
參 結 論 原 子 力 運 用 的 範 疇 跨 越 了 半 導 體 業 紀 錄 媒 體 業 電 化 學 生 命 科 學 以 及 材 料 科 學 等 多 種 不 同 面 向, 除 了 與 電 子 一 樣, 可 做 為 奈 米 材 料 的 表 面 形 貌 量 測 工 具 外, 更 可 用 來 當 做 一 奈 米 加 工 的 工 具, 近 年 來 亦 引 起 學 術 研 究 的 注 意, 如 應 用 於 半 導 體 蝕 刻 儲 存 材 料 等 其 造 價 低 於 電 子, 且 裝 置 體 積 小, 設 計 彈 性 高, 這 些 特 點 使 得 原 子 力 顯 微 鏡 與 其 它 系 統 整 合 又 AFM 不 僅 可 在 大 氣 中 進 行 量 測, 亦 可 在 液 相 或 變 溫 的 環 境 下 進 行 樣 品 即 時 量 測, 特 別 是 液 相 中 的 量 測 對 於 生 物 樣 品 觀 測 有 相 當 大 的 幫 助 這 些 多 樣 的 操 作 環 境 及 樣 品 製 備 的 低 限 制 使 得 AFM 的 應 用 範 圍 更 加 廣 泛, 我 們 相 信 在 目 前 科 技 不 斷 推 進 的 腳 步 之 下,AFM 易 與 其 它 系 統 整 合 的 特 性, 會 幫 助 它, 在 未 來 人 們 不 斷 的 激 盪 中, 將 產 生 更 多 從 AFM 而 延 伸 出 來 的 類 型, 有 助 於 我 們 更 進 一 步 對 微 小 物 件 進 行 觀 測 與 在 微 小 物 件 上 進 行 各 種 加 工 肆 引 註 資 料 註 一 澳 門 培 道 中 學 http://www.pooito.edu.mo/~thsieok/f4_physics/tunnel.pdf ( 檢 索 日 期 : 2009/03/20) 註 二 掃 描 探 針 奈 米 技 術 實 驗 室 http://www.mse.nthu.edu.tw/~hnlin/spm-1.htm ( 檢 索 日 期 :2009/03/22) 註 三 吳 宗 明 呂 宗 興 薛 富 盛 蔡 毓 楨 原 子 力 實 作 訓 練 教 材 ( 台 中 市 : 五 南,2007) 註 四 林 敬 二 儀 器 分 析 ( 第 五 版 ) ( 台 北 市 : 美 亞 ) 註 五 開 南 商 工 原 子 力 基 本 原 理 與 應 用 http://web1.knvs.tp.edu.tw/afm/afm.htm ( 檢 索 日 期 :2009/03/25) 註 六 セイコーインスツル 株 式 会 社 http://www.sii.co.jp/ ( 檢 索 日 期 : 2009/03/25) 12